[发明专利]一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法

权利要求书

1.一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1坯料预处理：将坯料表面清洁干净，待用；

S2坯料施釉：将釉料喷洒在经S1处理的坯料表面形成釉面，室温晾干4～12h，待用；

S3釉面处理：在经S2处理的胚料的表面喷洒氯化镁溶液。

2.根据权利要求1所述的一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于：S2中，在喷洒釉料前，还对坯料进行喷水处理，且喷水后在50℃下干燥20～30min。

3.根据权利要求2所述的一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于：S2中釉料喷洒包括以下步骤：

S2-1将釉料喷洒在经喷水处理的坯料上，室温晾干30～50min后，继续在坯料表面喷洒氯化镁溶液，得一层施釉坯料；

S2-2在一层施釉坯料上继续喷洒釉料，室温晾干20～30min后，继续喷洒氯化镁溶液，得二层施釉胚料；

S2-3重复S2-2，完成施釉。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于：按重量计，S3中氯化镁溶液的浓度为30～60％；S2-1和S2-2中氯化镁溶液的浓度为10～30％。

5.根据权利要求4所述的一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于：按重量计，S3中氯化镁溶液的浓度为40～50％；S2-1和S2-2中氯化镁溶液的浓度为15～25％。

6.根据权利要求5所述的一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于：按重量计，S3中氯化镁溶液的浓度为45％；S2-1和S2-2中氯化镁溶液的浓度为20％。

7.根据权利要求6所述的一种防止卫生陶瓷产生毛孔的施釉方法，其特征在于：S3中氯化镁溶液的喷射速度为0.5～1ml/s；S2-1和S2-2中氯化镁溶液的喷射速度为1～2ml/s。