[发明专利]一种端口静电释放保护电路在审

专利信息
申请号: 201811561577.4 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN109449156A 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 何均;张启帆;张海军;邵派 申请(专利权)人: 上海艾为电子技术股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H02H9/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 201199 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 选择电路 输入端 静电释放保护电路 输出端 衬底 漏极 电位 负电压信号 寄生二极管 源极均接地 衬底电位 正向导通 低电位 烧毁 输出 保证
【说明书】:

发明提供一种端口静电释放保护电路,包括低压选择电路和NMOS晶体管;低压选择电路的一个输入端和NMOS晶体管的漏极,均与待保护端口相连;低压选择电路的另一输入端和NMOS晶体管的源极均接地;低压选择电路的输出端与NMOS晶体管的栅极和衬底相连;并且,低压选择电路输出端输出的信号,为低压选择电路的两个输入端接收的信号中电位较低的信号。本发明通过增加低压选择电路,保证NMOS管的衬底电位始终是待保护端口和地之间的较低电位,当待保护端口接收到负电压信号时,NMOS晶体管的衬底与漏极之间的寄生二极管不会正向导通,避免NMOS管在工作时被烧毁的风险。

技术领域

本发明涉及电力电子技术领域,特别涉及一种端口静电释放保护电路。

背景技术

传统的端口ESD(Electro-Static discharge,静电释放)保护电路,都是基于芯片正常工作时,端口信号为非负电压信号而设计的。如图1所示,其晶体管M1是不带DNW(DeepN-WELL,采用深n阱工艺在NWELL之下注入的一层N-)隔离的普通NMOS(N-Metal-Oxide-Semiconductor,N型金属-氧化物-半导体)晶体管,其栅极G、源极S以及衬底PW接GND电位,其漏极D直接接端口PAD。

图1中,当端口PAD输入信号为正电压信号时,晶体管M1衬底PW与漏极D之间的寄生二极管(PN结)发生雪崩击穿,击穿电流流过衬底电阻,在衬底PW与源极S之间产生电压差,当电压差大到一定程度,使得衬底PW与源极S之间PN结导通,最终晶体管M1的寄生NPN三极管导通,寄生NPN三极管成为ESD电流的主要泄放通路,从而实现对内部电路的保护。

然而实际应用中的某些应用场合,在芯片正常工作时,其端口输入信号可能会出现负电压,如果直接采用传统ESD保护电路,比如图1所示的端口ESD保护电路,当端口PAD输入信号为负电压信号时,由于晶体管M1的衬底PW直接接GND,则衬底PW与漏极D之间的寄生二极管有发生正向导通的风险,当压差较大时,会产生很大的漏电流,严重时甚至烧毁该晶体管。

发明内容

本发明提供一种端口静电释放保护电路,以解决现有技术中输入信号为负电压信号时存在安全隐患的问题。

为实现上述目的,本申请提供的技术方案如下:

一种端口静电释放保护电路,包括:低电压选择电路和NMOS晶体管;其中:

所述低电压选择电路的一个输入端,和,所述NMOS晶体管的漏极,均与待保护端口相连;

所述低电压选择电路的另一个输入端,和,所述NMOS晶体管的源极,均接地;

所述低电压选择电路的输出端与所述NMOS晶体管的栅极和衬底相连;且所述低电压选择电路的输出端输出的信号,为所述低电压选择电路的两个输入端接收的信号中电位较低的信号。

可选的,所述NMOS晶体管为带DNW隔离的NMOS晶体管。

可选的,所述低电压选择电路包括:第一开关管和第二开关管;

所述第二开关管的第一端,作为所述低电压选择电路的一个输入端,与所述待保护端口相连;

所述第一开关管的第一端,作为所述低电压选择电路的另一个输入端,接地;

所述第一开关管的控制端与所述待保护端口相连;

所述第二开关管的控制端接地;

所述第一开关管的第二端与所述第二开关管的第二端相连,连接点作为所述低电压选择电路的输出端。

可选的,所述第一开关管和所述第二开关管均为:控制端电位高于第一端电位时导通的开关管。

可选的,所述第一开关管和所述第二开关管均为NMOS晶体管。

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