[发明专利]一种双面曝光的对准装置、方法及设备有效

专利信息
申请号: 201811557789.5 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN109613803B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 傅志伟 申请(专利权)人: 江苏影速集成电路装备股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 张勇
地址: 221000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双面 曝光 对准 装置 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种双面曝光的对准装置,其特征在于,所述装置包括:

定位标记、打标标记和位置获取装置;

所述打标标记位于样品承载装置上;

所述定位标记和所述打标标记的距离小于20mm和/或通过抗变形材料连接;

所述定位标记用于实时确定所述打标标记的位置,从而根据所述打标标记的位置确定待曝光样品的曝光图形位置;

所述打标标记用于对待曝光样品进行打标;

所述位置获取装置用于实时获取所述定位标记的位置信息。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述定位标记和所述打标标记的相对位置变化量小于预定值,所述预定值根据所述待曝光样品进行双面曝光时所要求的对准精度设定。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:

样品承载装置和打标装置;所述样品承载装置用于承载所述待曝光样品;所述打标装置用于通过所述打标标记对所述待曝光样品进行打标;

所述打标标记位于所述样品承载装置上。

4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述打标标记位于所述样品承载装置的边缘部分。

5.一种双面曝光的对准方法,其特征在于,所述方法应用于权利要求1-4任一所述的双面曝光的对准装置中,所述方法包括:

对待曝光样品的一面进行曝光;

通过打标标记对所述待曝光样品的另一面进行标记;

实时获取定位标记的位置信息;

根据实时获取到的所述定位标记的位置信息确定所述打标标记的位置信息;

根据所述打标标记的位置信息对待曝光样品另一面进行对准曝光。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述对待曝光样品的一面进行曝光之前,还包括:

实时获取对待曝光样品的一面进行曝光时定位标记的位置信息,并根据获取到的定位标记的位置信息在待曝光样品的一面曝光出中间标志,所述中间标志用于确定其所在面的曝光图形的位置。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述通过打标标记对所述待曝光样品的另一面进行标记之前,还包括:

根据所述待曝光样品的大小选取至少两个打标标记;

将所述待曝光样品覆盖在所述打标标记之上且不能覆盖所选取的打标标记对应的定位标记。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述根据所述打标标记的位置信息对待曝光样品另一面进行对准曝光包括:

根据所述打标标记的位置信息实时确定所述待曝光样品另一面的曝光图形的位置;

根据实时确定的所述待曝光样品另一面的曝光图形的位置对所述待曝光样品的另一面进行曝光。

9.一种曝光设备,其特征在于,所述曝光设备包括权利要求1~4任一所述的双面曝光的对准装置。

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