[发明专利]触摸屏组件、触摸屏组件的制备方法及触摸装置

说明书

本申请公开了一种触摸屏组件，触摸屏组件的制备方法及触摸装置，触摸屏组件包括从下至上依次层叠设置的第一保护层，导电层以及第二保护层；其中，所述导电层的上表面设置有粗糙结构，所述导电层的上表面与所述第二保护层接触，所述粗糙结构包括规则排列的多个第一凹槽，所述粗糙结构用于在入射光透过所述第二保护层照射所述导电层时，使得所述入射光发生漫反射和/或散射。从而减少发白现象，并提高透过率及显示品质。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种触摸屏组件、触摸屏组件的制备方法及触摸装置。

背景技术

近年来，触摸显示器技术发展突飞猛进，用户可直接在触摸显示器上进行操作，因此收到了越来越多的关注和应用。

现有技术中，触摸显示器多由具有触控功能的触摸屏贴合在显示面板上制成，而触摸屏多采用电容式传感，其主要结构包括隔着绝缘层纵横交错的驱动线和感应线，当手指(或其它物体)靠近或触摸时，会影响在触摸点附近相交叉的驱动线和感应线间的电容，通过检测驱动线和感应线间的电容变化就可以识别触摸点的位置。而主流的触摸屏结构基本上是驱动线和感应线同层形成，其中之一采用金属搭桥或氧化铟锡(ITO)搭桥相互连接的结构，金属搭桥结构在光照下较易看到金属连接线发白现象，影响透过率及显示品质。

因此，现有技术存在缺陷，急需改进。

发明内容

本申请实施例提供一种触摸屏组件、触摸屏组件的制备方法及触摸装置，可以减少发白现象，并提高透过率及显示品质。

本申请实施例提供一种触摸屏组件，包括：

从下至上依次层叠设置的第一保护层，导电层以及第二保护层；其中，

所述导电层的上表面设置有粗糙结构，所述导电层的上表面与所述第二保护层接触，所述粗糙结构包括规则排列的多个第一凹槽，所述粗糙结构用于在入射光透过所述第二保护层照射所述导电层时，使得所述入射光发生漫反射和/或散射。

在本申请所述的触摸屏组件中，所述多个第一凹槽中相邻第一凹槽之间存在间隔，用于承载所述第二保护层。

在本申请所述的触摸屏组件中，所述规则排列的多个第一凹槽的截面形状为锯齿形状。

在本申请所述的触摸屏组件中，形成所述锯齿形状的第一凹槽的截面形状为三角形、矩形或者弧形中的至少一种。

在本申请所述的触摸屏组件中，所述第一凹槽的水平宽度为50纳米～5微米，所述第一凹槽的竖直深度为10纳米～50纳米。

在本申请所述的触摸屏组件中，如上所述的粗糙结构还包括：

规则排列的多个第二凹槽，所述第二凹槽与所述第一凹槽交错设置。

在本申请所述的触摸屏组件中，所述第一保护层的竖直厚度为10纳米～40纳米，所述第二保护层的竖直厚度为10纳米～50纳米，所述导电层的竖直厚度为50纳米～400纳米。

本申请实施例还提供一种触摸屏组件的制备方法，包括：

蒸镀形成第一保护层；

在所述第一保护层上蒸镀一导电层，其中，对所述导电层做图案化处理，以使所述导电层上形成粗糙结构；

在所述粗糙结构上蒸镀第二保护层，以形成所述触摸屏组件；

其中，所述粗糙结构包括规则排列的多个第一凹槽，所述粗糙结构用于在入射光透过所述第二保护层照射所述导电层时，使得所述入射光发生漫反射和/或散射。

在本申请所述的触摸屏组件的制备方法中，图案化处理为等离子体溅射处理，蚀刻处理或激光光刻处理中的至少一种。