[发明专利]蒸镀设备与蒸镀制作工艺

权利要求书

1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

卷对卷基板传送装置，用以传送基板；

蒸镀装置，与所述卷对卷基板传送装置相对设置；以及

掩模装置，设置于所述卷对卷基板传送装置与所述蒸镀装置之间，且位于所述蒸镀装置上方，其中所述掩模装置具有多个可调式开孔，所述可调式开孔经调整以控制其在所述蒸镀装置至所述基板的方向上投影至所述基板的投影面积，

其中所述蒸镀装置产生的蒸镀气体穿过所述可调式开孔而到达所述基板。

2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其中所述掩模装置具有平行配置的多个叶片，所述多个叶片之间定义出所述多个可调式开孔，其中每一所述叶片的长度方向与所述基板的传送方向交错，且每一所述叶片可绕着与所述长度方向平行的轴转动。

3.如权利要求2所述的蒸镀设备，其中所述掩模装置包括在所述传送方向上依序设置的第一掩模单元与第二掩模单元，且所述第一掩模单元与所述第二掩模单元各自具有多个所述叶片。

4.如权利要求3所述的蒸镀设备，其中所述第一掩模单元与所述第二掩模单元位于不同水平高度。

5.如权利要求3所述的蒸镀设备，其中所述第一掩模单元与所述第二掩模单元各自可绕着与所述长度方向平行的轴转动。

6.如权利要求2所述的蒸镀设备，其中每一所述叶片与垂直所述掩模装置的平面之间的夹角介于15°至70°之间。

7.如权利要求6所述的蒸镀设备，其中所述夹角符合方程式1：

θ＝tan^-1(x_c/y_d) 方程式1

其中x_c为所述蒸镀装置与所述基板的中心点之间的水平距离，y_d为所述蒸镀装置与所述基板之间的垂直距离。

8.如权利要求2所述的蒸镀设备，其中每一所述叶片的宽度大于在所述基板上所欲形成的膜层的宽度。

9.如权利要求1所述的蒸镀设备，其中所述掩模装置具有平行设置的上遮板与下遮板，所述上遮板具有多个第一开孔，所述下遮板具有多个第二开孔，且所述上遮板与所述下遮板各自可在所述传送方向上移动，其中所述第一开孔与所述第二开孔的重叠部分定义出所述多个可调式开孔。

10.如权利要求9所述的蒸镀设备，其中所述掩模装置包括在所述传送方向上依序设置的第一掩模单元与第二掩模单元，且所述第一掩模单元与所述第二掩模单元各自具有所述上遮板与所述下遮板。

11.如权利要求10所述的蒸镀设备，其中所述第一掩模单元与所述第二掩模单元位于不同水平高度。

12.如权利要求10所述的蒸镀设备，其中所述第一掩模单元与所述第二掩模单元各自可绕着与所述传送方向交错的轴转动。

13.如权利要求1所述的蒸镀设备，还包括镀率监测装置，设置于邻近所述掩模装置。

14.如权利要求1所述的蒸镀设备，还包括共蒸镀装置与镀率监测装置，其中所述共蒸镀装置与所述卷对卷基板传送装置相对设置，所述镀率监测装置设置于邻近所述掩模装置且远离所述共蒸镀装置。

15.如权利要求14所述的蒸镀设备，还包括挡板，设置于所述掩模装置上方，且位于所述镀率监测装置与共蒸镀装置之间。

16.如权利要求14所述的蒸镀设备，其中所述掩模装置设置为与所述共蒸镀装置的喷口在水平方向上等高。