[发明专利]一种去除亚表面损伤层的加工方法

说明书

本发明专利涉及一种去除亚表面损伤层的加工方法，将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛光光学产品表面，长时间的蠕动抛光作用，达到去除光学亚表面损伤的目的，激光损伤阈值大大提高。

技术领域

本发明专利属于光学产品的加工领域，尤其是一种去除亚表面损伤层的加工方法。

背景技术

光学玻璃是无机高分子凝聚态物质，在光学磨削过程中亚表面损伤只有亚表面裂纹和表面或亚表面残余应力两种形式。传统的光学加工采用研磨、抛光的工艺路线，其对加工过程中产生的亚表面损伤难于精确测量和去除，Meanpace提到磨削过程引入的亚表面损伤深度约为膜料粒度的3倍，而对散料磨料损伤深度是磨粒粒度的1-1.8倍，这一部分亚表面损伤层极大的降低了光学产品的损伤阈值，尤其在深紫外显得格外重要。

发明内容

由于目前抛光工艺采用机械化学抛光方法，存在重力压抛光产品，光学产品和抛光液在重力的切削压力下，表面存在亚表面损伤破坏层，无法去除，导致损伤极低！因此，本发明专利的目的在于发明一种去除亚表面损伤层的加工方法。

为了解决以上不足，本发明专利将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛光光学产品表面，长时间的蠕动抛光作用，达到去除光学亚表面损伤的目的。

附图说明

图1为本发明专利的一种去除亚表面损伤层的加工方法示意图。

具体实施例

为了更好的对本发明专利进行阐述，下面将结合附图做详细说明。

如图1所示，本发明专利的一种去除亚表面损伤层的加工方法示意图，101为抛光容器，102为稀释液体，103为旋转电机，104为二氧化硅纳米级抛光液，105为光学产品，106为粘结盘。

光学产品105粘结在抛光盘106上，采用传统方法先加工，加工好表面光洁度和面型，此时，光学产品105表面存在亚损伤层。104二氧化硅纳米级抛光液在102稀释液中稀释配比，放置在101抛光容器中，旋转电机103不断旋转，蠕动纳米级抛光液，使得104二氧化硅纳米级抛光液蠕动抛光光学产品105，同时105粘结在106抛光盘上，通过电机不断旋转，增加了105光学产品光学的抛光效率，达到去除亚表面损伤层的目的。

上述具体实施方式不能认为是对本发明专利的进一步限定，本领域技术人员根据本发明专利内容作出的非实质性改变均应落入本发明专利保护范围内。