[发明专利]一种去除亚表面损伤层的加工方法在审
| 申请号： | 201811546252.9 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109571269A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 廖洪平;朱一村;姜心声;张正新;陈伟;陈秋华 | 申请（专利权）人： | 福建福晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B24B13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350003 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米级抛光液 光学产品 去除 亚表面损伤层 蠕动 悬浮 亚表面损伤 电机搅拌 激光损伤 抛光产品 抛光容器 抛光作用 抛光盘 抛光液 抛光 切削 粘结 加工 流动 | ||
【权利要求书】：
1.本发明涉及一种去除亚表面损伤层的加工方法，其特征在于：将纳米级抛光液放置在抛光容器中，抛光产品粘结在抛光盘上，悬浮在纳米级抛光液中；容器中的电机搅拌纳米级抛光液不断蠕动，冲击光学产品，同时，悬浮在纳米级抛光液的光学产品不断旋转，利用抛光液流动切削抛光光学产品表面，长时间的蠕动抛光作用，达到去除光学亚表面损伤层的目的。
2.如权利要求1所述的一种去除亚表面损伤层的加工方法，其特征在于：纳米级抛光液可以为二氧化硅、氧化铈、钻石粉和氧化铁抛光液。
3.如权利要求1所述的一种去除亚表面损伤层的加工方法，其特征在于：加工的材料为光学玻璃和晶体材料。
4.如权利要求1所述的一种去除亚表面损伤层的加工方法，其特征在于：加工抛光液可以为无水有机溶剂。
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