[发明专利]低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器

权利要求书

1.一种低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器，其特征是：包括激励器放电腔(4)、激励器缓冲腔(2)、阴极放电电极(6)、阳极放电电极(5)和耐热硅胶，激励器放电腔(4)放置于激励器缓冲腔(2)内；

激励器放电腔(4)为空心圆柱体，激励器缓冲腔(2)为空心柱体或者横截面为多边形几何截面的空心柱体，激励器放电腔(4)与激励器缓冲腔(2)的间隔板上设有四个环形阵列分布的高速射流孔(3)，激励器缓冲腔(2)上壁设有三个环形阵列分布的低速射流孔(1)或者缝开口；

所述激励器放电腔(4)的底部分别插入阴极放电电极(6)和阳极放电电极(5)，采用耐热硅胶将阴极放电电极(6)和阳极放电电极(5)固定和密封，所述激励器放电腔(4)的体壁和耐热硅胶均为绝缘材质。

2.一种如权利要求1所述的低雷诺数条件的等离子体合成射流激励器工作方法，其特征是：包括以下步骤：

步骤一：激励器放电腔(4)内的气体在阴极放电电极(6)和阳极放电电极(5)放电作用下加热，使得激励器放电腔(4)内的气体变为高压气体；

步骤二：所述高压气体通过高速射流孔(3)射出到激励器缓冲腔(2)内，高速射流得到减速变为低速气体；

步骤三：所述低速气体通过低速射流孔(1)射出到外界；

步骤四：一次放电结束后，外界气体通过低速射流孔(1)和高速射流孔(3)进入激励器使得激励器内部气体参数恢复至放电前，一个工作循环结束。

3.根据权利要求2所述的工作方法，其特征是：通过改变激励器缓冲腔(2)的形状、尺寸和内部导流结构，以及低速射流孔(1)的形状和尺寸调节射出到外界的低速气体的气体速度和射流方向。

4.根据权利要求2所述的工作方法，其特征是：低速射流孔(1)射出孔口特征尺度下Re不大于10^6的低速射流。