[发明专利]多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法

权利要求书

1.一种多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)对石墨粉进行预氧化处理得到预氧化石墨；

2)将步骤1)所得预氧化石墨与浓硫酸反应生成黑色混合物，然后加入高锰酸钾得到黄绿色溶液，再加水进行搅拌处理，再进行氧化、酸洗、离心、水洗、干燥和超声处理，得到氧化石墨烯分散液；

3)将步骤2)所得氧化石墨烯分散液与氢氧化镁纳米线分散液按体积比为2:1～2:9的比例混合均匀，然后进行还原和酸洗处理，得到多孔氧化石墨烯超滤膜。

2.如权利要求1所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，步骤1)所述预氧化处理包括如下步骤：

将含有石墨粉、五氧化二磷、过硫酸钾和浓硫酸的混合溶液进行搅拌、洗涤和干燥处理，得到预氧化石墨。

3.如权利要求2所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述洗涤具体为将混合溶液抽滤到滤膜上，再用水进行洗涤，直至洗液的PH值呈中性。

4.如权利要求1所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，步骤2)所述超声处理时间为1～3小时，温度为10～25℃。

5.如权利要求1所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，步骤3)所述氢氧化镁纳米线分散液按如下方法制备得到：

将氯化镁水溶液与混合沉淀剂按体积比为1:1的比例混合均匀，然后进行搅拌和超声处理，得到氢氧化镁纳米线分散液；

其中，混合沉淀剂为氢氧化钠、氨水和水的混合物。

6.如权利要求5所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，所述氯化镁水溶液的浓度为3～6mol/L。

7.如权利要求1所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，步骤3)中还原处理所用还原剂为水合肼溶液，浓度为15～20mmol/L。

8.如权利要求1所述多孔结构氧化石墨烯超滤膜的制备方法，其特征在于，步骤3)中用乙二胺四乙酸进行酸洗处理，所述乙二胺四乙酸的浓度为0.4～0.8mmol/L。