[发明专利]一种抛光液及其制备方法

说明书

本发明涉及抛光液技术领域，具体涉及一种用于蓝宝石抛光的抛光液及其制备方法。解决现有技术无法实现蓝宝石抛光去除率和高表面平整度同时达到的技术问题。本发明的抛光液包括下列重量份的各组分：氧化锆10‑15份；氧化铈10‑15份；硅溶胶50‑60份；表面活性剂十二烷基苯磺酸钠14‑20份；分散剂聚乙二醇5.4‑7.2份；稳定剂水性丙烯酸共聚树脂14‑18份；pH调节剂1‑10份；去离子水1000份。本发明提供的抛光液通过在硅溶胶中加入氧化锆和氧化铈，提高了蓝宝石晶体的去除速率，降低了表面粗糙度，去除速率最高可达到50.5nm/min，表面粗糙度达到0.382nm。本发明提供的抛光液的制备方法，工艺简单，易于产业化生产。

技术领域

本发明涉及抛光液技术领域，具体涉及一种用于蓝宝石抛光的抛光液及其制备方法。

背景技术

蓝宝石具有硬度高、熔点高、透光性好、热传导性和电绝缘性优良、化学性能稳定的优点，并且具有耐磨和抗风蚀的特点。蓝宝石晶体的熔点为2050℃，沸点3500℃，最高工作温度可达到1900℃。蓝宝石晶体在高温下仍具有较好的稳定性，在可见与红外光范围内，有很好的透过率，因此在LED、手机等电子、通讯、国防领域等具有广泛的应用。但上述领域对蓝宝石的表面加工精度和表面完整性都有很高的要求。

为了获得能够满足应用要求，蓝宝石晶体在经过掏棒，切割，研磨过程后，需要进行精密抛光以获得最终的表面粗糙度。目前只有化学机械抛光技术可以在较低成本下获得较低的表面粗糙度及较高的材料去除率，然而，由于蓝宝石晶体的高硬度，高化学稳定性，整个过程非常耗时冗长，费人力，加工效率低，严重影响了蓝宝石晶体片的大规模工业应用。无法实现蓝宝石抛光去除率和高表面平整度同时达到。因此急需研制一种能够同时满足抛光去除率和高表面平整度要求的抛光液。

发明内容

本发明要解决现有技术中的技术问题，提供一种抛光液及其制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案具体如下：

一种抛光液，包括下列重量份的各组分：

氧化锆 10-15份；

氧化铈 10-15份；

硅溶胶 50-60份；

表面活性剂十二烷基苯磺酸钠 14-20份；

分散剂聚乙二醇 5.4-7.2份；

稳定剂水性丙烯酸共聚树脂 14-18份；

pH调节剂 1-10份；

去离子水 1000份。

在上述技术方案中，所述抛光液包括下列重量份的各组分：

氧化锆 13份；

氧化铈 13份；

硅溶胶 55份；

表面活性剂十二烷基苯磺酸钠 18份；

分散剂聚乙二醇 6.1份；

稳定剂水性丙烯酸共聚树脂 16份；

pH调节剂 5份；

去离子水 1000份。

在上述技术方案中，所述抛光液包括下列重量份的各组分：

氧化锆 14份；

氧化铈 12份；

硅溶胶 58份；

表面活性剂十二烷基苯磺酸钠 16份；

分散剂聚乙二醇 5.8份；