[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明的基板处理装置能够将进行了取向处理后的液晶用基板，在整个液晶用基板上覆盖有预处理材料薄膜的状态下搬送到清洗工序。对取向处理后的液晶用基板(20)进行清洗处理的基板处理装置(10)中，覆膜处理槽(11)具有对由搬送装置(15)搬入的液晶用基板(20)的取向处理面(20A)供给预处理材料(21)的第一供给装置(17)，该第一供给装置(17)在向搬送方向的下游侧倾斜的状态下供给预处理材料(21)，使其成为在沿着取向处理面(20A)且与搬送方向正交的方向上扩散的帘状，在覆膜处理槽(11)中的第一供给装置(17)的搬送方向的下游侧设有第二供给装置(18)，对取向处理面(20A)的至少一部分供给预处理材料(21)。

技术领域

本发明涉及对进行了取向处理后的液晶用基板进行清洗处理的基板处理装置。

背景技术

先前，在作为液晶显示装置的主要构成部件的液晶面板的制造中，在液晶用玻璃基板的表面涂布聚酰亚胺等高分子膜，利用摩擦处理法或偏振紫外线照射处理法等进行取向处理。

其中，在摩擦处理法中，由于摩擦高分子膜的表面而产生微细的粉尘或刮擦屑等，因此需要在摩擦处理后除去附着于基板表面的异物，通过超音波或高压喷射等对基板表面进行纯水清洗。在该摩擦处理后的基板清洗中，经常产生清洗不均的问题。

因此，作为有效地除去异物且抑制基板表面的清洗不均的方法，广泛采用在纯水清洗前，利用具有亲水性的例如异丙醇(IPA)等对基板表面进行覆膜处理的方法。具体而言，例如通过对基板表面喷射IPA而形成IPA薄膜。认为如上所述地通过预先在纯水清洗以前形成IPA薄膜而改善清洗不均的原因在于：在其后的过程中，纯水与IPA置换，由此可防止水分偏向于取向膜表面存在而造成部分性水解。现有技术文献

专利文件

[专利文献1]日本专利特开平9-33927号

发明内容

本发明所要解决的技术问题

然而，存在IPA的沸点低而挥发性高的事实。另一方面，液晶用玻璃基板在近年来日益大型化，因此存在如下的问题：形成IPA薄膜后的液晶用玻璃基板到达清洗槽比先前需要更长的时间，早先所形成的搬送方向的前侧的薄皮状IPA薄膜开始局部性干燥。此种覆膜不均进一步导致清洗不均，其结果对液晶显示装置的品质降低带来较大影响。

本发明是基于如上所述的事实而成的，其目的在于提供能够将进行了取向处理后的液晶用基板，在整个液晶用基板上覆盖有预处理材料薄膜的状态下从覆膜处理槽搬送到下一个槽中的基板处理装置。解决问题的手段

本发明是一种基板处理装置，对取向处理后的液晶用基板进行清洗处理，其具有在搬送方向上搬送所述液晶用基板的搬送装置、通过水系清洗材料对所述液晶用基板进行清洗的清洗槽、在所述清洗槽的所述搬送方向的上游侧在所述液晶用基板上覆盖预处理材料薄膜的覆膜处理槽以及将所述薄膜置换为所述水系清洗材料的置换槽，所述覆膜处理槽具有第一供给装置，对由所述搬送装置搬入的所述液晶用基板的取向处理面供给所述预处理材料，该第一供给装置在向所述搬送方向的下游侧倾斜的状态下供给所述预处理材料，使其成为在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上扩散的帘状，在所述覆膜处理槽中的所述第一供给装置的所述搬送方向的下游侧设有第二供给装置，对所述取向处理面的至少一部分供给所述预处理材料。

根据此种构成，通过第一供给装置将预处理材料以帘状供给到液晶用基板的取向处理面，因此能够在整个取向处理面上，以不均极少的接近均匀的状态形成预处理材料薄膜。而且，以向下游侧倾斜的状态供给预处理材料，因此与以垂直或向上游侧倾斜的状态供给预处理材料的构成相比而言，能够使扩散良好，且抑制预处理材料飞散。如上所述地供给的预处理材料在向置换槽搬送的过程中流动(扩散)缓缓地变平稳，既而在并不流动的稳定状态下包覆取向处理面。