[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 201811494729.3 | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN110007491A | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 谷池康司郎 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;H01L21/67 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 汪飞亚;习冬梅 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 液晶用基板 预处理材料 第一供给装置 基板处理装置 取向处理面 覆膜处理 取向处理 第二供给装置 搬送装置 方向正交 清洗处理 清洗工序 搬入 帘状 薄膜 扩散 覆盖 | ||
1.一种基板处理装置，对取向处理后的液晶用基板进行清洗处理，其特征在于，具有：
在搬送方向上搬送所述液晶用基板的搬送装置、
通过水系清洗材料对所述液晶用基板进行清洗的清洗槽、
在所述清洗槽的所述搬送方向的上游侧在所述液晶用基板上覆盖预处理材料薄膜的覆膜处理槽以及将所述薄膜置换为所述水系清洗材料的置换槽，
所述覆膜处理槽具有第一供给装置，对由所述搬送装置搬入的所述液晶用基板的取向处理面供给所述预处理材料，该第一供给装置在向所述搬送方向的下游侧倾斜的状态下供给所述预处理材料，使其成为在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上扩散的帘状，
在所述覆膜处理槽中的所述第一供给装置的所述搬送方向的下游侧设有第二供给装置，对所述取向处理面的至少一部分供给所述预处理材料。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第二供给装置具有用以将所述预处理材料供给到所述液晶用基板的多个供给孔，在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上等间隔地设置该多个供给孔。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第二供给装置具有用以将所述预处理材料供给到所述液晶用基板的多个供给孔，在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上偏于两端部地设置该多个供给孔。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第二供给装置具有用以将所述预处理材料供给到所述液晶用基板的多个供给孔，该多个供给孔在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上，两端部侧的孔径比中央部的孔径大。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第二供给装置具有用以将所述预处理材料供给到所述液晶用基板的多个供给孔，该多个供给孔在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上，两端部侧的密度配置得比中央部的密度密。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第二供给装置是在管道上设有所述多个供给孔的管道喷淋器。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：
所述第二供给装置对所述液晶用基板垂直地供给所述预处理材料。
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