[发明专利]过滤装置和光阻涂布系统

说明书

本发明公开一种过滤装置和光阻涂布系统，该过滤装置包括：储液桶，用于盛放待过滤光阻剂；搅拌结构，包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件；第一管路，所述第一管路的一端连通所述储液桶，所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶；第一过滤组件，设于所述第一管路，并位于所述储液桶和所述搅拌桶之间；第一压力检测组件，设于所述第一管路，用于检测所述第一管路内光阻剂的压力；及第二管路，所述第二管路的一端连通所述搅拌桶，所述第二管路的另一端连接于涂布装置。本发明旨在提供一种过滤性能佳、分散性好的过滤装置。

技术领域

本发明涉及半导体处理设备技术领域，特别涉及一种过滤装置和光阻涂布系统。

背景技术

在半导体加工处理过程中，往往需要采用诸如光阻的光敏材料。光阻，亦称光阻剂，可以应用于很多工业制程中。一般地，光阻从生产到最后使用通常要经历运输及存放等，在产线使用时，光阻容易产生颗粒，直接涂布在产品基板上，容易造成产品瑕疵，导致产品的良率下降。这里的陈述仅提供与本申请有关的背景信息，而不必然地构成现有技术。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种过滤装置，旨在提供一种过滤性能佳、分散性好的过滤装置。

为实现上述目的，本发明提出的过滤装置，应用于光阻涂布系统，该过滤装置包括：

储液桶，用于盛放待过滤光阻剂；

搅拌结构，包括搅拌桶、及至少部分容纳所述搅拌桶内的搅拌组件；

第一管路，所述第一管路的一端连通所述储液桶，所述第一管路的另一端连通所述搅拌桶；

第一过滤组件，设于所述第一管路，并位于所述储液桶和所述搅拌桶之间；

第一压力检测组件，设于所述第一管路，用于检测所述第一管路内光阻剂的压力；及

第二管路，所述第二管路的一端连通所述搅拌桶，所述第二管路的另一端连接于涂布装置。

在一实施例中，所述储液桶包括桶体和第一转接头，所述桶体具有盛放光阻剂的容置腔，所述桶体设有连通所述容置腔的第一开口，所述第一转接头安装于所述第一开口处，所述第一管路的一端穿过所述第一转接头容纳于所述容置腔内；

所述过滤装置还包括通气管，所述通气管的一端穿过所述第一转接头容纳于所述容置腔内，所述通气管的另一端连接有气泵。

在一实施例中，所述第一转接头开设有连通所述容置腔的第一调节孔，所述第一管路的一端穿过所述第一调节孔伸入所述容置腔内，且所述第一管路通过所述第一调节孔可调节伸入所述容置腔内的长度；

且/或，所述第一转接头开设有连通所述容置腔的第二调节孔，所述通气管的一端穿过所述第二调节孔伸入所述容置腔内，且所述通气管通过所述第二调节孔可调节伸入所述容置腔内的长度；

且/或，所述第一管路伸入所述容置腔内的长度大于所述通气管伸入所述容置腔内的长度；

且/或，所述储液桶还包括设于所述第一开口处的密封圈，所述密封圈夹设于所述第一转接头和所述第一开口的内壁之间，用于密封所述第一转接头和所述桶体的第一开口。

在一实施例中，所述第一过滤组件包括串联设置于所述第一管路的第一滤芯和第二滤芯，所述第一滤芯靠近所述储液桶，所述第二滤芯靠近所述搅拌桶，所述第一滤芯的孔径大于或等于所述第二滤芯的孔径；

所述第一压力检测组件包括第一压力检测器和第二压力检测器；所述第一压力检测器位于所述储液桶和所述第一滤芯之间，用于检测所述第一管路内光阻剂过滤前的压力；第二压力检测器位于所述第二滤芯和所述搅拌桶之间，用于检测所述第一管路内光阻剂过滤后的压力。