[发明专利]曝光辅助图形添加方法

权利要求书

1.一种曝光辅助图形添加方法，其特征在于：

获取原始图层的完整设计版图；

根据已经获得的原始版图图形，对当层版图进行OPC修正处理，再将处理后的版图图形间距小于要求一的区域选出来；所述要求一定义为小于500nm；

在上述选定的区域内，添加曝光辅助图形；该曝光辅助图形的尺寸满足要求二，不会在硅片上曝出图形；所述要求二，包括定义曝光辅助图形到主图形边界距离小于500nm，定义曝光辅助图形线端到主图形边界的距离大于50nm，定义曝光辅助图形之间的间距大于120nm，定义曝光辅助图形宽度为小于150nm，定义曝光辅助图形长度大于等于100nm；

在添加曝光辅助图形时，若光刻胶边界存在内凹，内凹宽度小于要求三，则先将对应的原始版图图形外凸部分进行移除处理，再对移除外凸部分后所产生的新的边界添加曝光辅助图形；所述要求三，取值与要求二中定义的曝光辅助图形之间的间距相关，定义为200nm。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：另外要求满足要求一的版图图形层间距平行长度大于100nm。