[发明专利]纳米压印弹性模板的制作方法、纳米压印弹性模板及组件

权利要求书

1.一种纳米压印弹性模板的制作方法，其特征在于：包括如下步骤：

提供基片，在基片的一侧上依次设置弹性支撑层、增粘层及纳米压印胶层，形成基板；

提供母板，在母板上形成有纳米压印结构；

将基板中纳米压印胶所在的一侧与母板中纳米压印结构所在的一侧接触；

将纳米压印结构印制于纳米压印胶层上；

将基板与母板分离；

将基片与弹性支撑层分离。

2.根据权利要求1所述的纳米压印弹性模板的制作方法，其特征在于：在基片与弹性支撑层之间还形成有抗黏剂层。

3.根据权利要求2所述的纳米压印弹性模板的制作方法，其特征在于：所述抗黏剂层由全氟辛基三氯硅烷和/或全氟癸基三氯硅烷形成。

4.根据权利要求1所述的纳米压印弹性模板的制作方法，其特征在于：所述基片由硅片、玻璃、石英片或聚四氟乙烯形成。

5.根据权利要求1所述的纳米压印弹性模板的制作方法，其特征在于：在将所述基板中纳米压印胶层所在的一侧与所述母板中纳米压印结构所在的一侧接触，并将所述纳米压印结构印制于所述纳米压印胶层上的步骤中，其还包括如下步骤：

将所述基板中纳米压印胶层所在的一侧与所述母板中第一纳米压印结构所在的一侧接触，以形成纳米压印组件；

将所述纳米压印组件放置于密封工作室内；

提供柔性覆盖膜，将所述柔性覆盖膜盖设于所述纳米压印组件上，并跨过所述纳米压印组件的边缘后与所述密封工作室的底板接触，使所述柔性覆盖膜与所述密封工作室的底板之间形成一容置纳米压印组件的容置腔；

降低所述密封工作室内的气压，使所述容置腔内的气压小于初始状态所述密封工作室内的气压；

增加所述密封工作室内的气压，使所述密封工作室内的气压大于所述容置腔内的气压；

使所述纳米压印胶层固化。

6.根据权利要求5所述的纳米压印弹性模板的制作方法，其特征在于：通过紫外线照射和/或加热的方法对所述纳米压印组件中的纳米压印胶进行固化。

7.一种纳米压印弹性模板，其特征在于：包括弹性支撑层、增粘层及纳米压印胶层，所述增粘层形成于所述弹性支撑层上，所述纳米压印胶层形成于所述增粘层上，在纳米压印胶层上形成有纳米压印结构。

8.根据权利要求7所述的纳米压印弹性模板，其特征在于：所述弹性支撑层为聚二甲基硅氧烷制成的弹性支撑层。

9.根据权利要求7所述的纳米压印弹性模板，其特征在于：所述弹性支撑层的弹性模量为1-20MPa。

10.根据权利要求7所述的纳米压印弹性模板，其特征在于：所述纳米压印胶层固化后的弹性模量为20-500MPa。

11.根据权利要求7所述的纳米压印弹性模板，其特征在于：所述增粘层由3-丙烯酰氧基丙基甲基二氯硅烷材料制成的增粘层。

12.一种纳米压印组件，其特征在于，包括：

基板，包括基片、在基片一侧上依次设置的弹性支撑层、增粘层及纳米压印胶层；

母板，在母板上形成有纳米压印结构；

通过将基板中纳米压印胶层所在的一侧与母板中纳米压印结构所在的一侧接触，纳米压印结构印制于纳米压印胶层上。