[发明专利]刻划机加工精度补偿方法及光伏芯片

权利要求书

1.一种刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

所述方法包括以下步骤：

S10：在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型；

S20：根据数据模型，对所述刻划单元在不同加工时间下的运动趋势进行补偿。

2.根据权利要求1所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

所述步骤S10中，所述在不同时间下包括从刻划机冷机启动到热机工作的任一时间。

3.根据权利要求1所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

在所述步骤S10中，通过多次试验，获取同一时刻下多个所述刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立所述同一时刻下的数据模型。

4.根据权利要求3所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

在所述步骤S10中，从所述同一时刻下获取的多个刻划运动趋势变化的数据中选择有效数据，根据所述有效数据获得所述同一时刻下的数据模型。

5.根据权利要求3所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

在所述步骤S10中，根据所述同一时刻下的数据模型，通过权重计算或平均值计算出补偿量。

6.根据权利要求1-5中任一所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

所述步骤S10中，所述刻划单元的刻划运动趋势变化的数据包括所述刻划单元实际刻划轨迹与预设刻划轨迹的偏移数据。

7.根据权利要求6所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

所述偏移数据包括所述刻划单元的实际刻划轨迹与预设刻划轨迹的偏移方向；

以及所述刻划单元的实际刻划轨迹与预设刻划轨迹之间的偏移距离。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

在所述步骤S20中，根据所述数据模型，确定在任一加工时间的补偿量；在所述任一加工时间下，将所述补偿量补偿到所述刻划单元的运动趋势。

9.根据权利要求8所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：

所述补偿量包括补偿方向和补偿时间。

10.一种光伏芯片，其特征在于：所述光伏芯片通过权利要求1-9中任一项所述的刻划机加工精度补偿方法制成。