[发明专利]铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极及其制备方法在审
| 申请号: | 201811441161.9 | 申请日: | 2018-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN109273540A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
| 发明(设计)人: | 李刚;沈鸿烈;王天齐;彭塞奥;姚婷婷;金克武 | 申请(专利权)人: | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司;南京航空航天大学 |
| 主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0445 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 陈俊 |
| 地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电极 阻挡层 膜层 铜铟镓硒薄膜太阳能电池 金属层 制备 铜铟镓硒薄膜电池 玻璃基板表面 玻璃基板顶面 磁控溅射工艺 薄膜电池 玻璃基板 依次层叠 溅镀 | ||
本发明公开铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极,包括玻璃基板,玻璃基板顶面由下至上依次层叠有第一阻挡层、金属层、内Mo层、第二阻挡层与外Mo层;第一阻挡层为厚度10~200nm的SiN膜层或SiOxNy膜层;金属层为厚度20~200nm的Al层或Cu层;第二阻挡层为厚度5~50nm的MoN膜层或TiN膜层;内Mo层的厚度为100~800nm,所述外Mo层的厚度为20~200nm;通过磁控溅射工艺在玻璃基板表面溅镀各膜层即得到本电极,电极在有效降低铜铟镓硒薄膜电池成本的同时,更进一步提高了薄膜电池的性能,且工艺简单,制备方便。
技术领域
本发明涉及薄膜太阳能电池技术领域,具体是一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极及其制备方法。
背景技术
太阳能光伏发电是零排放的清洁能源,具有安全可靠、无噪音、无污染、资源取之不尽、建设周期短、使用寿命长等优势,因而备受关注。铜铟镓硒(CIGS)是一种直接带隙的P型半导体材料,其吸收系数高达105/cm,2μm厚的CIGS薄膜就可吸收90%以上的太阳光。CIGS薄膜的带隙从1.04eV到1.67eV范围内连续可调,可实现与太阳光谱的最佳匹配。CIGS薄膜太阳能电池作为新一代的薄膜电池具有性能稳定、抗辐射能力强、弱光也能发电等优点,其转换效率在薄膜太阳能电池中是最高的,2017年已达到22.6%的转化率,因此日本、德国等国家都投入巨资进行研究和产业化。
在制备CIGS薄膜太阳能电池的过程中,获得高质量的背电极非常重要。背电极的质量直接影响CIGS 吸收层薄膜的结晶、生长及表面形貌,进而对电池性能产生重要影响。在CIGS 吸收层制备过程中,金属钼(Mo)不易同铜(Cu)或铟(In)合金化,不易在CIGS 吸收层中扩散,具备较高的稳定性,并且同CIGS 吸收层之间具有较低的接触阻抗,使其成为CIGS 薄膜太阳能电池优选背电极材料。
然而,金属钼作为一种稀有金属,其价格相对较高。在量产制造时,如何制备低成本、高效率的铜铟镓硒薄膜太阳能电池,是目前最值得开发研究的课题之一。
发明内容
本发明的目的在于提供铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极及其制备方法,该电极在有效降低铜铟镓硒薄膜电池成本的同时,更进一步提高了薄膜电池的性能,且工艺简单,制备方便。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极,包括玻璃基板,玻璃基板顶面由下至上依次层叠有第一阻挡层、金属层、内Mo层、第二阻挡层与外Mo层;
所述第一阻挡层为厚度10~200nm 的SiN膜层或SiOxNy膜层;
所述金属层为厚度20~200nm的Al层或Cu层;
所述第二阻挡层为厚度5~50nm 的MoN膜层或TiN膜层;
所述内Mo层的厚度为100~800nm,所述外Mo层的厚度为20~200nm。
本发明还提供一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池电极的制备方法,包括以下步骤:
S1、清洗玻璃基板,去除玻璃基板表面的污垢;
S2、采用磁控溅射工艺,在玻璃基板表面溅镀10~200nm 厚度的第一阻挡层,第一阻挡层为SiN膜层或SiOxNy膜层,溅射的工作气体为氩气,反应气体为氮气,溅射功率密度为0.5~4.0W/cm2,氩气流量为100~200sccm,氮气流量为10~150sccm;
S3、采用磁控溅射工艺,在第一阻挡层表面溅镀20~200nm厚度的金属层,金属层为Al层或Cu层;溅射功率密度为0.5~5.0W/cm2,氩气流量为100~200sccm;
S4、采用磁控溅射工艺,在金属层表面溅镀100~800nm厚度的内Mo层;
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