[发明专利]一种基于激光加工的二极管器件及其制造方法在审
| 申请号: | 201811439346.6 | 申请日: | 2018-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN109585568A | 公开(公告)日: | 2019-04-05 |
| 发明(设计)人: | 邓月忠;温国豪;褚宏深;宋旭官;黄正信 | 申请(专利权)人: | 丽智电子(昆山)有限公司 |
| 主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L23/31;H01L21/329;H01L21/56 |
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林;俞翠华 |
| 地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基板块 顶表面 芯片 二极管器件 激光加工 保护层 包覆 同一水平面 间隔设置 切割刀片 背电极 减小 贴合 渗入 制造 阻隔 废水 | ||
本发明公开了一种基于激光加工的二极管器件及其制造方法,第一基板块、第二基板块、芯片和保护层,所述第二基板块与第二基板块位于同一水平面,且与第一基板块间隔设置;所述芯片设于所述第一基板块上,其底表面与所述第一基板块的顶表面贴合;所述导线的一端与所述芯片的顶表面相连,另一端与所述第二基板块的顶表面相连;所述保护层将芯片和导线全部包覆在内,且部分包覆所述第一基板块和第二基板块。本发明能够实现减小产品误差,且不会有废水产生,以及可百分之百阻隔模压胶渗入背电极,甚至在切割刀片上的损耗也能获得改善。
技术领域
本发明属于电子元器件制造技术领域,具体涉及一种基于激光加工的二极管器件及其制造方法。
背景技术
现有传统的二极管制作工艺中,所需的基板通常是采用湿式蚀刻的方式,即采用腐蚀性液体对其基板进行线路图形的制作。湿式蚀刻制程需在基板正背面经过曝光显影的前处理,该制程虽然属于成熟技术,但设备的精准度严重影响蚀刻面的公差,进而导致产品外观及电性不良。
传统的湿式蚀刻制程,会有大量的蚀刻废水需要处理,对于环保意识崛起的地区,废水的处理将是笔额外且巨大的开销。
传统的二极管封装制程,其基板底部是利用高温胶带阻挡模压胶渗入背电极,这种设计很难百分之百保证完全阻挡,很可能会造成部分不良品产生,甚至影响产品焊锡性,另外,传统的二极管封装制程,其基板选用金属框架,而在切割作业上对刀片的损耗较为剧烈。
发明内容
针对上述问题,本发明提出一种基于激光加工的二极管器件及其制造方法,能够实现减小产品误差,且不会有废水产生,以及可百分之百阻隔模压胶渗入背电极,甚至在切割刀片上的损耗也能获得改善。
实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:
第一方面,本发明提供了一种基于激光加工的二极管器件,包括:
第一基板块,
第二基板块,所述第二基板块与第二基板块位于同一水平面,且与第一基板块间隔设置;
芯片,所述芯片设于所述第一基板块上,其底表面与所述第一基板块的顶表面贴合;
导线,所述导线的一端与所述芯片的顶表面相连,另一端与所述第二基板块的顶表面相连;
保护层,所述保护层将芯片和导线全部包覆在内,且部分包覆所述第一基板块和第二基板块;
第一基板块和第二基板块上外露在保护层之外的部分作为背电极。
优选地,所述保护层包覆了第一基板块和第二基板块厚度的一半。
优选地,所述导线的材质为金、铜、铝、银中任一种。
优选地,所述保护层由环氧树脂制成。
优选地,所述第一基板块和第二基板块来自于同一块基板,由铜材料制成。
第二方面,本发明提供了一种基于激光加工的二极管器件的制造方法,包括:
(1)在基板的正面进行蚀刻,形成若干个蚀刻区;
(2)在基板上位于所述蚀刻区的一侧点胶,然后将芯片放置于该点胶处;
(3)将导线的一端与所述芯片的顶表面相连,另一端与基板上位于蚀刻区上与所述芯片相对的一侧的顶表面相连;
(4)在所述基板的正面、芯片和导线上制作保护层;
(5)在基板背面对所述蚀刻区进行加工形成背电极,得到半成品;
(6)对所述半成品进行切割,完成二极管器件的制造。
优选地,所述蚀刻区的蚀刻深度为基板厚度的一半。
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