[发明专利]一种提高高能圆型加速器圈能量增益的方法有效
申请号: | 201811428298.0 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN109599190B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 张天爵;李明;边天剑;殷治国;王川;安世忠 | 申请(专利权)人: | 中国原子能科学研究院 |
主分类号: | G21B1/15 | 分类号: | G21B1/15 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 罗焕清 |
地址: | 10241*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 高能 圆型 加速器 能量 增益 方法 | ||
1.一种提高高能圆型加速器圈能量增益的方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤一、选择高频频率为粒子回旋频率×单元周期数的整数倍;
步骤二、设置同一漂移节相邻位置的高频腔的摆放位置;
具体为:注入能量和引出能量粒子经过两个腔时的高频相位差相同,即
△φi=△φe;
其中,△φi、△φe分为注入能量和引出能量粒子经过两个高频腔时的高频相位差,Li、Le分别为注能能量和引出能量经过两个高频腔的距离,vi、ve分别为注入能量和引出能量粒子的速度,ωrf为高频频率;
步骤三、设置长漂移节中第一个高频腔的初始相位;
具体为:粒子经过该高频腔中心时,高频腔的相位φ0_1=0°;
步骤四、设置长漂移节中第n个高频腔的初始相位;
具体为:
其中,φ0_1、φ0_n分别为长漂移节中粒子经过的第一个高频腔和第n个高频腔的初始相位,vi为注入粒子的运动速度,Li为注入能量粒子经过两个高频腔的距离,ωrf为高频频率。
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