[发明专利]一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法

权利要求书

1.一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、高光谱成像

对已知画风的书画和待鉴定书画，利用高光谱成像仪进行高光谱成像，分别获取已知画风书画的高光谱成像数据和待鉴定书画的高光谱成像数据；

步骤2、高光谱图像预处理

对获取的已知画风书画的高光谱成像数据和待鉴定书画的高光谱成像数据进行校正、定标处理，分别得到已知画风书画的预处理高光谱成像数据和待鉴定书画的预处理高光谱成像数据；

步骤3、高光谱图像特征变换

对处理后的已知画风书画的预处理高光谱成像数据和待鉴定书画的预处理高光谱成像数据进行高光谱图像特征变换，分别得到已知画风书画的高光谱特征数据和待鉴定书画的高光谱特征数据；

步骤4、画风特征度量与提取

对变换后的已知画风书画的高光谱特征数据和待鉴定书画的高光谱特征数据进行画风特征的度量和提取，得到已知画风书画的画风特征和待鉴定书画的画风特征；

步骤5、已知画风书画特征平均化

先对已知画风书画的画风特征进行归类，即，将画风相同的书画的画风特征归为一类，并将每个归类里的画风特征求平均，得到不同画风归类的平均画风类特征。

步骤6、待鉴定书画画风识别

将待鉴定书画的画风特征与上述不同画风归类的平均画风类特征分别计算相关系数，并将计算得到的最大相关系数对应的画风类，作为待鉴定书画的画风鉴定结果。

2.如权利要求1所述的一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，其特征在于，所述步骤1高光谱成像是在相同环境，包括光源、距离、角度及成像方式下，获取已知画风书画和待鉴定书画的可见光-近红外高光谱成像数据。

3.如权利要求1所述的一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，其特征在于，所述步骤2高光谱图像预处理指对已知画风书画的光谱图像和待鉴定书画的光谱图像进行校正、定标处理，其中校正主要完成书画数据的空间变形修正，定标主要完成书画数据的光谱信息标定。

4.如权利要求1所述的一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，其特征在于，所述步骤3高光谱图像特征变换指对已知画风的预处理书画高光谱图像和待鉴定书画的预处理高光谱图像进行光谱维数学变换，包括但不限于主成分变换和独立成分变换。

5.如权利要求1所述的一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，其特征在于，所述步骤4画风特征度量与提取指对已知画风书画的高光谱特征数据和待鉴定书画的高光谱特征数据，按像素点逐点计算每个像素点特征数据与全部像素点的平均特征数据的欧式距离，然后统计已知画风书画和待鉴定书画的各自所有的像素点特征数据的欧式距离，得到各自的全像素特征数据欧式距离统计直方图，作为已知书画画风的画风特征和待鉴定书画的画风特征。

6.如权利要求1所述的一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，其特征在于，所述步骤5已知画风书画的特征平均化为，先将画风相同的书画的画风特征统计直方图归为一类，并将每个归类里的画风特征统计直方图求平均，得到的每个归类的画风特征的平均统计直方图，作为不同画风归类的平均画风类特征。

7.如权利要求1所述的一种基于光谱成像技术与图谱分析的书画画风鉴定方法，所述步骤6待鉴定书画的画风识别指把相关系数作为判据，将待鉴定书画的画风特征与上述不同画风归类的平均画风类特征分别计算相关系数，并将计算得到的最大相关系数对应的画风类，作为待鉴定书画的画风鉴定结果。