[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置

说明书

本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够避免像素定义层发生脱气(outgas)。该阵列基板包括基板以及设置于基板上的像素定义层，该像素定义层为无机层。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)显示器因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点，已被广泛地应用于包括电脑、手机等电子产品在内的各种电子设备中。

其中，像素定义层(Pixel Define Layer，PDL)作为OLED显示装置中的一个重要组成部分，其主要采用有机材料形成，而有机材料本身会存在严重的脱气(outgas)现象，会直接影响OLED器件的寿命。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够降低像素定义层中有机材料脱气(outgas)的产生。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供一种阵列基板，包括基板以及设置于所述基板上的像素定义层，所述像素定义层为无机层。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括：覆盖所述像素定义层中挡墙的上表面以及侧面的疏液层。

在一些实施例中，所述像素定义层厚度为所述疏液层的厚度的1～50倍。

在一些实施例中，所述像素定义层厚度为所述疏液层的厚度的20～40倍。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括：位于所述像素定义层靠近所述基板一侧的亲液层，所述亲液层在所述像素定义层中挡墙的侧面的底部形成凸出的台阶结构。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括：从所述像素定义层中挡墙的底部向侧面延伸形成的台阶结构；所述像素定义层包括无机亲液材料。

在一些实施例中，所述疏液层的厚度为0.1μm～0.5μm；所述像素定义层的厚度为0.1μm～5μm。

本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成无机膜层，并通过构图工艺形成像素定义层；在形成有所述像素定义层的基板上形成覆盖所述像素定义层中挡墙的上表面以及侧面的疏液层。

在一些实施例中，所述在基板上形成无机膜层，并通过构图工艺形成像素定义层的同时，在所述像素定义层中挡墙的底部形成向侧面延伸的台阶结构。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括前述的阵列基板。

综上所述，本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该阵列基板包括基板以及设置于基板上的像素定义层，该像素定义层为无机层；由于本发明中设置的像素定义层采用无机材料，从而避免了因采用有机材料形成像素定义层PDL而造成的outgas。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明相关技术提供的一种阵列基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；