[发明专利]柔性显示面板测试样品及其制作方法、缺陷分析方法有效
| 申请号: | 201811397023.5 | 申请日: | 2018-11-22 |
| 公开(公告)号: | CN109524574B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
| 发明(设计)人: | 薛孝忠;杜聪聪 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L21/66;H01L51/00 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 刘伟;张博 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 柔性 显示 面板 测试 样品 及其 制作方法 缺陷 分析 方法 | ||
本发明提供了一种柔性显示面板测试样品及其制作方法、缺陷分析方法,属于显示技术领域。本发明的技术方案能够提高柔性OLED产品缺陷分析的精度。其中,柔性显示面板测试样品的制作方法,包括:在柔性显示面板的测试区域的薄膜封装层上形成厚度小于阈值的金属层;确定测试区域中缺陷所在位置,利用激光在所述金属层上形成对应所述缺陷的缺陷位置标记,所述缺陷在所述金属层上的正投影位于所述缺陷位置标记限定出的区域内。本发明的技术方案用于对柔性OLED产品进行缺陷分析。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是指一种柔性显示面板测试样品及其制作方法、缺陷分析方法。
背景技术
柔性OLED(有机电致发光二极管)显示屏具有体积上更加轻薄,功耗较低,可弯曲,柔韧性佳的特性,成为智能显示终端追逐的对象。
对于柔性OLED产品在制作工艺中产生的一些不良,如Particle(微粒)不良、微孔、微裂纹不良等,需要对柔性OLED产品进行制样分析。在制样分析时,需要利用激光Mark(标记)不良位置,再进行后续的测试分析。柔性OLED通常采用TFE(薄膜封装层)封装工艺,由于TFE层透过率高、对激光吸收率差,在利用激光Mark不良位置时,激光更容易透过TFE层被下部的显示功能膜层吸收,进而会出现TFE下部膜层损伤、TFE破裂、Mrak引入新的Defect(缺陷)、或是破坏原有Defect形貌等情况,干扰最终的分析结果。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种柔性显示面板测试样品及其制作方法、缺陷分析方法,能够提高柔性OLED产品缺陷分析的精度。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:
一方面,提供一种柔性显示面板测试样品的制作方法,包括:
在柔性显示面板的测试区域的薄膜封装层上形成厚度小于阈值的金属层;
确定测试区域中缺陷所在位置,利用激光在所述金属层上形成对应所述缺陷的缺陷位置标记,所述缺陷在所述金属层上的正投影位于所述缺陷位置标记限定出的区域内。
进一步地,所述在柔性显示面板的测试区域形成金属层之前,所述方法还包括:
去除所述柔性显示面板上的临时保护膜;
根据所述柔性显示面板的缺陷确定所述测试区域,所述缺陷位于所述测试区域内;
将所述测试区域与所述柔性显示面板分离。
进一步地,所述在柔性显示面板的测试区域形成金属层包括:
在所述测试区域溅射一层厚度不超过10nm的金属层。
进一步地,溅射时的溅射电流为15mA,溅射时长为20s,靶材高度为25mm。
进一步地,所述金属层采用金或铂。
进一步地,所述激光的波长为532nm-1064nm。
本发明实施例还提供了一种柔性显示面板测试样品,包括:
位于柔性显示面板的测试区域的薄膜封装层上的金属层,所述金属层的厚度小于阈值,所述柔性显示面板的缺陷位于所述测试区域内;
位于所述金属层上的缺陷位置标记,所述缺陷在所述金属层上的正投影位于所述缺陷位置标记限定出的区域内。
进一步地,所述金属层的厚度不超过10nm。
进一步地,所述金属层采用金或铂。
本发明实施例还提供了一种柔性显示面板的分析方法,用于对上述的柔性显示面板测试样品进行分析,所述分析方法包括:
利用所述缺陷位置标记确定所述柔性显示面板的缺陷的位置;
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