[发明专利]汲取管、液体控制系统、控制方法及装置

权利要求书

1.一种汲取管，其特征在于，包括：

第一盖，所述第一盖的第一侧内表面设置有至少一电磁铁；所述第一盖的第一侧外表面还包括插管，所述插管的中心通孔与所述第一盖的中心通孔相适配；

第二盖，所述第二盖的第一侧内表面设置有至少一永久磁铁；所述第二盖的中心位置还具有插孔；

第一安装元件、第一螺母和第一供应管，分别依次设置于所述第一盖的第二侧外表面上；

第二安装元件、第二螺母和第二供应管，分别依次设置于所述第二盖的第二侧外表面上；

其中，各电磁铁与各永久磁铁的位置一一对应；所述插管和所述插孔相适配。

2.根据权利要求1所述的汲取管，其特征在于，所述第一盖还包括至少一定位插销，各定位插销至少部分凸出所述第一盖的第一侧外表面；

所述第二盖的第一侧还包括至少一定位插槽；

其中，各定位插销和各定位插槽相适配。

3.根据权利要求1所述的汲取管，其特征在于，所述第一盖内还设置有至少一接近传感器；

所述第二盖的第一侧内表面还设置有至少一金属片；

其中，各接近传感器和各金属片位置相对应。

4.根据权利要求1所述的汲取管，其特征在于，其中，

所述插管远离所述第一盖的第一侧的第一端具有第一导角；

所述插孔远离所述第二盖的第一侧的第一端具有第二导角；

所述插管靠近所述第一盖的第一侧的第二端具有第三导角；

所述插孔靠近所述第二盖的第一侧的第二端具有第四导角；

其中，所述第一导角和所述第二导角相适配；所述第三导角和所述第四导角相适配。

5.根据权利要求4所述的汲取管，其特征在于，所述第三导角远离所述第一盖的第一侧的末端具有密封环。

6.一种液体供应系统，其特征在于，包括：

液体储存装置；

如权利要求1至5中任意一项所述的汲取管。

7.根据权利要求6所述的液体供应系统，其特征在于，所述液体供应系统为研磨液供应系统，所述液体储存装置为研磨液桶。

8.一种控制方法，应用于如权利要求6或7所述的液体供应系统，其特征在于，所述方法包括：

发送第一控制信号至所述至少一电磁铁，以使各电磁铁与各永久磁铁相结合；和/或

发送第二控制信号至所述至少一电磁铁，以使各电磁铁与各永久磁铁相分离。

9.根据权利要求8所述的控制方法，其特征在于，所述第一盖内还设置有至少一接近传感器；所述第二盖的第一侧内表面还设置有至少一金属片；其中，各接近传感器和各金属片位置相对应；其中，所述方法还包括：

接收所述至少一接近传感器采集的反馈信号；

若所述反馈信号满足预设条件，则发送第三控制信号至所述液体供应系统，以使其开始供液操作。

10.一种控制装置，应用于如权利要求6或7所述的液体供应系统，其特征在于，所述装置包括：

第一控制模块，配置为发送第一控制信号至所述至少一电磁铁，以使各电磁铁与各永久磁铁相结合；和/或

第二控制模块，配置为发送第二控制信号至所述至少一电磁铁，以使各电磁铁与各永久磁铁相分离。

11.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求8或者9中所述的控制方法。

12.一种电子设备，其特征在于，包括：

处理器；

存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；

其中，所述处理器被配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求8或者9中所述的控制方法。