[发明专利]主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试方法、装置及系统在审

专利信息
申请号: 201811339990.6 申请日: 2018-11-12
公开(公告)号: CN109406899A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 葛欣宏;李旭;张鹰 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 罗满
地址: 130033 吉林省长春市*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 屏蔽薄膜 透光 光学玻璃 金属箱体 电磁波信号 电磁屏蔽效能 产生装置 电磁信号 计算装置 屏蔽效能 主动式 计算机可读存储介质 屏蔽效能测试系统 全封闭箱体结构 屏蔽效能测试 装置及系统 辐照 窗口处 屏蔽 预设 采集 测试 覆盖 申请
【说明书】:

发明实施例公开了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。其中,系统包括电磁信号产生装置、金属箱体及电磁屏蔽效能计算装置。电磁信号产生装置产生预设强度电磁波信号,并将电磁波信号辐照至金属箱体的窗口处;金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构,光学玻璃上设置待测透光屏蔽薄膜;透光屏蔽薄膜的面积不小于光学玻璃的面积以覆盖光学玻璃;电磁屏蔽效能计算装置用于采集经待测透光屏蔽薄膜屏蔽后金属箱体内的电磁波信号强度,并计算其与不经待测透光屏蔽薄膜的金属箱体内电磁波信号强度的比值,作为待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。本申请实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

技术领域

本发明实施例涉及电磁兼容技术领域,特别是涉及一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质。

背景技术

随着电子技术的发展,空间环境中的电磁环境越来越复杂,既包括各种电子设备工作过程中发射的无意电磁辐射,也包括各种人为的、有意的、对抗性的因素引起的电磁干扰,甚至在极端情况下会出现电磁脉冲、高功率微波等毁伤性电磁辐射干扰。复杂的电磁环境会对该环境中的电子设备产生干扰甚至毁伤,为了解决电磁干扰的问题,电磁屏蔽技术应运而生。

电磁屏蔽技术通过切断电磁波的传播途径,从而消除电磁干扰,实现有效的电磁防护。但对于光学成像类设备,由于光学窗具有电磁透明性,电磁波能够基本无阻碍的传输至设备内部,造成干扰,鉴于此,透光屏蔽薄膜成为光学成像类设备的有效电磁防护手段。

在这种背景下,研究透光屏蔽薄膜电磁屏蔽效能的测量方法能够有效评价其性能,相关技术一般通过将透光屏蔽薄膜安装于玻璃窗口后置于收发天线间进行屏蔽效能测量。

但是,直接将透光屏蔽薄膜置于开放环境中的天线之间,由于电磁波的绕射等特性,这种方法只能屏蔽中心点附件的电磁屏蔽效能,测量结果有较大的误差,且测量结果反映的为透光屏蔽薄膜材料本身的屏蔽效能,但是透光屏蔽薄膜材料需要安装于实际的光学成像类设备中,测量结果无法评估应用场景下的屏蔽效能。

发明内容

本公开实施例提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统、方法、装置、设备及计算机可读存储介质,实现了对透光屏蔽薄膜屏蔽效能的准确测试。

为解决上述技术问题,本发明实施例提供以下技术方案:

本发明实施例一方面提供了一种主动式透光屏蔽薄膜屏蔽效能测试系统,包括电磁信号产生装置、金属箱体及电磁屏蔽效能计算装置;

所述电磁信号产生装置用于产生预设强度电磁波信号,并将所述电磁波信号辐照至所述金属箱体的窗口处;

所述金属箱体为具有安装光学玻璃的窗口的全封闭箱体结构,所述光学玻璃上设置待测透光屏蔽薄膜;所述待测透光屏蔽薄膜的面积不小于所述光学玻璃的面积,以覆盖所述光学玻璃;

所述电磁屏蔽效能计算装置用于采集经所述待测透光屏蔽薄膜屏蔽后所述金属箱体内的电磁波信号强度,并计算其与不经所述待测透光屏蔽薄膜的所述金属箱体内电磁波信号强度的比值,作为所述待测透光屏蔽薄膜的屏蔽效能值。

可选的,所述电磁信号产生装置包括信号发生器、功率放大器及发射天线;

所述信号发生器将产生的信号通过所述功率放大器放大后,馈入所述发射天线的输入端,以使所述发射天线产生电磁波信号辐照至所述窗口处。

可选的,所述电磁屏蔽效能计算装置包括电场强度采集器、场强监视器和效能计算器;

所述电场强度采集器设置在所述金属箱体内部,用于采集所述电磁波信号透射进入所述金属箱体内部的电场强度;

所述场强监视器与所述电场强度采集器相连,用于实时接收所述电场强度采集器发送的电场强度信息;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811339990.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top