[发明专利]离子喷头流量控制系统及设备

说明书

本发明公开了离子喷头流量控制系统，包括有：流量输入端，流量输入端用于提供预设的流量值；可编程控制器模块；压力控制电磁阀，压力控制电磁阀连接可编程控制器模块并接收来至于其的控制指令，调节其输出的气体压力；喷涂压力容器，其具有连接压力控制电磁阀的压力输入端，还具有用于喷涂的输出端；药水输出管路，其与喷涂压力容器流体连接；重量传感器，其用于对装载有气体的喷涂压力容器进行重量感应，重量传感器的反馈端连接可编程控制器模块；可编程控制器模块、压力控制电磁阀、喷涂压力容器以及重量传感器构成闭环控制结构；控制程序为包括PID算法的控制程序。本发明具有控制效果好，响应速度块，输出相对准确的优点。

技术领域

本发明涉及喷涂设备领域，尤其涉及一种离子喷头流量控制系统及设备。

背景技术

喷涂设备一般使用简单的手动调压阀控制流量，无法实现流量的实时自动监控。当外部气压出现波动时，或者喷涂管路出现异常时，会发生喷涂流量的波动，影响喷涂效果，造成品质缺陷。此外由于技术的限制，目前市场上没有适合的流量传感器能直接监控药水流量，且药水型号不同流量传感器检测出来的流量会出现偏差。为此，本发明就是在这样的背景下而研制。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中无法自动监控和调整喷涂流量，喷涂效果差的技术问题，提供离子喷头流量控制系统及设备。

为解决上述技术问题，一方面，提供一种离子喷头流量控制系统，其技术方案如下：

离子喷头流量控制系统，其特征在于包括有：

流量输入端，所述流量输入端用于提供预设的流量值；

可编程控制器模块，所述可编程控制器模块用于加载控制程序并输出控制指令；

压力控制电磁阀，所述压力控制电磁阀连接所述可编程控制器模块并接收来至于所述可编程控制器模块的控制指令，调节其输出的气体压力；

喷涂压力容器，所述喷涂压力容器被配置为容置高压气体的装置，其具有连接所述压力控制电磁阀的压力输入端，还具有用于喷涂的输出端；

药水输出管路，其与所述喷涂压力容器流体连接；

重量传感器，其用于对装载有气体的所述喷涂压力容器进行重量感应，所述重量传感器的反馈端连接所述可编程控制器模块；

所述可编程控制器模块、压力控制电磁阀、喷涂压力容器以及重量传感器构成闭环控制结构；

所述控制程序为包括PID算法的控制程序。

作为较优的改进，还包括有流量异常报警模块，其与所述可编程控制器模块控制连接；所述流量异常报警模块用于监控预设单位时间内的流量偏差。

作为较优的改进，还包括有流量记录模块，所述流量记录模块连接所述可编程控制器模块，所述流量记录模块用于统计预设时间段的流量以形成流量报表。

作为较优的改进，所述压力控制电磁阀为电磁比例阀。

作为较优的改进，还包括有药液使用量统计模块，其用于记录预设单位时间内的药液使用量以便取样分析。

作为较优的改进，所述可编程控制器模块装载有补偿算法，所述补偿算法公式为：D_OUT＝INT[(X-X_min)*D_i]+DX，INT为计算结果取整输出，式中：

X为所述流量输入端所设定的流量，单位为g/s；

X_min为X所对应的预设区间的最小流量，单位为g/s；

D_i为X所对应的预设区间内的单位流量对应的气压，单位为KPa；