[发明专利]显影装置及基板显影方法在审
| 申请号： | 201811271898.0 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109407387A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 丁鹏 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/13;G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 喷嘴 喷淋 传送平台 显影装置 基板显影 喷淋机构 喷淋管 传动过程 干燥基板 基板相对 浓度控制 药液流向 药液置换 区域性 传动 预设 吹风 | ||
1.一种显影装置，其特征在于，包括：传送平台(10)以及设于所述传送平台(10)上方的喷淋机构(20)；所述喷淋机构(20)包括喷淋管(21)以及设于所述喷淋管(21)上的多个第一喷嘴(22)和多个第二喷嘴(23)；
所述传送平台(10)用于传动基板(30)，并在传动过程中使基板(30)相对于水平方向倾斜；
所述第一喷嘴(22)用于持续向基板(30)喷淋药液；
所述第二喷嘴(23)用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。
2.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述传送平台(10)中设有多个相对于水平方向倾斜的导辊(11)。
3.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述基板(30)相对于水平方向倾斜的角度为5°。
4.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述第二喷嘴(23)内具有螺纹，通过T型螺帽与螺纹配合来关闭第二喷嘴(23)。
5.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述多个第二喷嘴(23)分别位于每相邻两个第一喷嘴(22)之间。
6.一种基板显影方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供显影装置；所述显影装置包括：传送平台(10)以及设于所述传送平台(10)上方的喷淋机构(20)；所述喷淋机构(20)包括喷淋管(21)以及设于所述喷淋管(21)上的多个第一喷嘴(22)和多个第二喷嘴(23)；
步骤S2、所述传送平台(10)传动基板(30)，并在传动过程中使基板(30)相对于水平方向倾斜；
步骤S3、所述第一喷嘴(22)持续向基板(30)喷淋药液；所述第二喷嘴(23)根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。
7.如权利要求6所述的基板显影方法，其特征在于，所述传送平台(10)中设有多个相对于水平方向倾斜的导辊(11)。
8.如权利要求6所述的基板显影方法，其特征在于，所述基板(30)相对于水平方向倾斜的角度为5°。
9.如权利要求6所述的基板显影方法，其特征在于，所述第二喷嘴(23)内具有螺纹，所述步骤S3中通过T型螺帽与螺纹配合来关闭第二喷嘴(23)。
10.如权利要求6所述的基板显影方法，其特征在于，所述多个第二喷嘴(23)分别位于每相邻两个第一喷嘴(22)之间。
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