[发明专利]一种连续型真空多彩镀膜系统

说明书

本发明公开了一种连续型真空多彩镀膜系统，其包括按续连接的进料辉光清洗真空腔体，中频溅射镀膜真空腔体和出料真空腔体，进料辉光清洗真空腔体可用于获得1.0E‑3数量级真空度，进行辉光除气，敏化金属表层，为增强膜层与镀膜表面的结合力做好准备；中频溅射镀膜真空腔体进行镀膜工作，其保持1Pa以下压力，并设置本底真空0.003Pa，用高能量金属粒子注入工件表层导电层，然后在此基础上通入一定比例的氮气、乙炔，获得彩色PVD膜层；出料真空腔体在使中频溅射镀膜真空腔体保持中高真空的同时用于换物料并隔绝大气。

技术领域

本发明涉及镀膜领域，具体为涉及一种连续型真空多彩镀膜系统。

背景技术

现有单体装备须要不断往复的接触及排除标况大气压环境，因腔体表面在生产过程中和产品同时被镀上纳米级别的膜层，这使得炉壁在接触大气的时候会吸附大量的极性及活泼气体(例如H2O，O2等)，再次获取高真空时，这些气体缓慢释放，降低了真空获得速度，并参与等离子体化学反应，造成膜层结合力下降，亮度始终在较低水平。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的目的在于提供一种连续型真空多彩镀膜系统。

本发明通过以下技术方案来实现：一种连续型真空多彩镀膜系统，其具有连续的三个腔体：腔体1可用于获得-3数量级真空度，进行辉光除气，敏化金属表层，为增强膜层与镀膜表面的结合力做好准备；腔体2进行镀膜工作，其保持1Pa以下压力，并设置本底真空0.003Pa，用高能量金属粒子注入工件表层导电层，然后在此基础上通入一定比例的氮气、乙炔，获得彩色PVD膜层；腔体3在使腔体2保持中高真空的同时用于换物料并隔绝大气。

本发明具有如下有益效果：本发明比传统的单体多彩PVD镀膜装备拥有更纯净的真空组分，转架系统经过特殊设计，可以公转也可以同时自转，使得产品每个表面都能均匀获得多彩膜层。另外自主设计的物流插板阀，摆脱了之前的技术瓶颈，比翻板阀拥有更小的活动体积，更大的口径，更简单的结构，更稳定的输出。结合大抽速，短节拍的配置设计，将使得新一代真空装备效率大幅度提升。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。

图1是本发明的主视图。

图2是本发明的俯视图。

图中1-进料辉光清洗真空腔体；2-中频溅射镀膜真空腔体；3-出料真空腔体；4-装备机架；5-干式低真空泵；6-罗茨泵；7-传输性矩形插板阀；8-转架传动系统；9-真空管路；10-节流阀；11-高真空插板阀；12-分子泵；13-高真空直角挡板阀；14-观察窗；15-人工作业门；16-中频溅射系统；17-辉光清洗系统。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

参考说明书附图1-2，该连续型真空多彩镀膜系统采用3腔体连续型排列：

其中腔体1为进料辉光清洗真空腔体，用于隔绝大气和保持真空状态的腔体2，其还具备交流电辉光的功能，可以用于还原工件表面金属导电层的自然氧化膜。其工作过程为：步骤一获取真空0.005Pa，过程为240s；步骤二加电压2000V，输入50％的Ar，流量为1000sccm，气压为3Pa,节流阀设为0°,节拍时间为180s，频率25Hz；步骤三传送物料至腔体2，过程为40s；步骤四充过滤后的大气，过程为20s。