[发明专利]一种掩膜版制作工艺

说明书

本发明公开了一种掩膜版制作工艺，包括如下步骤：S1、涂胶：提供一光学高分子PC复合板材，在所述光学高分子PC复合板材表面旋涂抗反射中性密着层，在所述抗反射中性密着层上旋涂中性UV光刻胶；S2、光刻：通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行激光曝光；S3、显影：将光刻后的光学高分子PC复合板材置于一显影槽进行浸泡显影，所述显影槽内设有显影液；S4、坚膜。本发明采用光学高分子PC复合板材来制作掩膜版相比于传统的玻璃制作，大大降低了其制作的周期。

技术领域

本发明涉及掩膜版制作领域，特别涉及一种掩膜版制作工艺。

背景技术

现有的掩膜版制作大多是在玻璃上进行的，通过多次电镀膜来制作掩膜版，再在其上制作工艺图案，但这种会有明显的凸起，较容易磨损。玻璃制品都是在玻璃表面涂上薄膜层，再通过光刻胶作为掩膜对玻璃上不需要的薄膜层进行腐蚀，形成图案。而且采用玻璃制作，其成本较高，也较容易损坏。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种掩膜版制作工艺，通过改变掩膜版底板的材料来降低成本和制作周期。

本发明解决上述问题所采用的技术方案为：一种掩膜版制作工艺，包括如下步骤：

S1、涂胶：提供一光学高分子PC复合板材，在所述光学高分子PC复合板材表面旋涂抗反射中性密着层，在所述抗反射中性密着层上旋涂中性UV光刻胶；

S2、光刻：通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行激光曝光；

S3、显影：将光刻后的光学高分子PC复合板材置于一显影槽进行浸泡显影，所述显影槽内设有显影液；

S4、坚膜。

优选的，所述UV光刻胶由中性UV油、光刻胶和助剂按照4:5:1的比例混合而成。

优选的，在所述步骤S1中，包括如下步骤：

S11、提供一光学高分子PC复合板材；

S12、在所述光学高分子PC复合板材上涂抹抗反射中性密着层，通过自然流平方式使抗反射中性密着层平铺至整个光学高分子PC复合板材上；

S13、待所述抗反射中性密着层晾干后，在其上涂抹中性UV光刻胶，通过旋转甩平方式将中性UV光刻胶平铺在抗反射中性密着层上；

S14、进行烘烤固化。

这样，在涂胶工艺中，能够保证每层胶都能够均匀覆盖，再通过最后的烘烤使各层之间紧密连接。

优选的，在步骤S14中，将涂抹处理后的所述光学高分子PC复合板材置于100-110℃中烘烤10-25min，进行固化，使各层之间紧密连接。

优选的，在所述步骤S3中，光刻后的所述高分子PC复合板材倾斜置于显影槽。相比于传统的直接水平放入显影液，采用倾斜放置于显影槽，便于显影。

优选的，所述显影液包括氢氧化钠、助剂和活性水。

优选的，在步骤S4中，所述坚膜采用烘烤坚膜，烘烤温度为100-110℃，烘烤时间为15-30min。这样，在密闭的无尘环境下，进行烘烤，使坚膜效果更好。

与现有技术相比，本发明的优点在于：采用光学高分子PC复合板材来制作掩膜版相比于传统的玻璃制作，大大降低了其制作的周期；通过改进相应的抗反射中性密着层和中性UV光刻胶的主要组成成分，使其具备较强的粘性，让抗反射中性密着层能够粘接在光学高分子PC复合板材上，同时中性UV光刻胶能够粘接在抗反射中性密着层。

附图说明

图1本发明光刻直写前结构示意图；

图2本发明掩膜版结构示意图。