[发明专利]一种静电消除装置及减少晶圆表面的静电残留的方法在审
| 申请号: | 201811246090.7 | 申请日: | 2018-10-24 |
| 公开(公告)号: | CN109451642A | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
| 发明(设计)人: | 宋箭叶 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号: | H05F3/06 | 分类号: | H05F3/06 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶圆表面 静电 静电消除单元 残留 静电消除装置 容置单元 容置腔 电离 晶圆 非真空环境 产品良率 静电消除 离子中和 正负电荷 正负离子 容置 制程 开口 | ||
1.一种静电消除装置,用于消除晶圆表面的静电残留,其特征在于,所述静电消除装置包括静电消除单元和容置单元,所述容置单元的内部具有一用于容置所述晶圆的容置腔,所述容置单元开设有至少一个与所述容置腔相连通的开口,所述静电消除单元固定连接于所述容置腔中,所述静电消除单元用于在非真空环境下提供电离的正负离子对所述晶圆进行静电消除。
2.如权利要求1所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述静电消除单元为离子风机。
3.如权利要求2所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述离子风机的出风口朝向所述晶圆。
4.如权利要求1所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述静电消除装置还包括用于承载所述晶圆的载物台,所述载物台位于所述容置腔内。
5.如权利要求1所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述静电消除装置还包括静电屏蔽单元,所述静电屏蔽单元设置于所述容置腔中。
6.如权利要求5所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述静电屏蔽单元为致密的金属层或金属网或金属纸或金属布。
7.如权利要求5所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述容置单元的材质为金属材质,或者所述容置单元的材质为非金属材质。
8.如权利要求1所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述容置单元的形状为中空的长方体,或者所述容置单元的形状为中空的圆柱体。
9.如权利要求1所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述容置单元采用可开启结构设计,所述可开启结构闭合时所述容置腔完全封闭。
10.如权利要求1所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述开口的数量为两个,所述容置单元沿第一方向开设形成贯通的两个所述开口,所述静电消除装置还包括一用于输送所述晶圆的输送带单元和用于控制所述输送带单元的控制单元,所述输送带单元包括输送带和电机,所述控制单元包括光电传感器和PLC控制器,所述输送带为透明材质,所述电机用于驱动所述输送带运动,所述光电传感器位于靠近所述输送带单元行程终点处的所述输送带的下方,所述光电传感器的输入端用于检测所述输送带上的晶圆的位置,所述光电传感器的输出端连接于所述PLC控制器,所述PLC控制器用于接收并处理所述光电传感器的输出端反馈的信息,所述PLC控制器的控制信号的输出端连接所述电机的控制信号输入端,所述两个开口之间形成一输送通道,所述输送带单元的输送带位于所述输送通道的外部并且穿过所述输送通道,所述第一方向为水平方向。
11.如权利要10所述的一种静电消除装置,其特征在于,所述输送带单元的传送路径上设置有一个或多个所述静电消除装置。
12.一种减少晶圆表面的静电残留的方法,其特征在于,包括以下步骤:所述晶圆在电子扫描显微镜观察之后经过如权利要求1-11所述的静电消除装置。
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