[发明专利]一种镀铝镭射材料的生产工艺及镭射材料

说明书

本发明公开了一种镀铝镭射材料的生产工艺，包括制作离型膜、制备设计涂布辊、制备信息层，将信息层经自主设计的涂布辊涂布在离型膜上以呈现镭射效果。本发明通过涂布工艺开发，直接通过二次涂布将镭射效果直接在涂布工序中呈现，减少了现有技术中制备镭射膜过程需要更换镭射版，膜压压印速度慢、生产效率低、成本高且工艺条件要求复杂的缺陷，仅通过二次涂布即可实现同样的效果，无需制作镍板，减少了膜压工艺，可提高效率，节约成本，同时，彻底隔绝因电镀镭射镍板造成的污染。

【技术领域】

本发明涉及高分子激光包装材料技术领域，具体涉及一种镀铝镭射材料的生产工艺及使用该工艺制备的镭射材料。

【背景技术】

目前加工镭射效果，需要经过涂布-膜压(电铸制膜压版)-镀铝工艺完成，先经过涂布机进行涂布工序，再将涂布后的基膜进行电铸膜压的工序，电铸膜压工作版效率低，污染较大。另外，膜压速度是目前镭射加工效率最大的制约，也是加工镭射膜频繁出现品质异常、影响合格率的关键点。

【发明内容】

未解决现有技术中存在的上述技术问题，本发明的目的之一在于通过涂布工艺开发，通过二次涂布将镭射效果直接在涂布工序呈现，可提高生产效率，节约生产成本，进而抢占市场。为了克服现有技术的不足，本发明的主要技术方案如下：

一种镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：

①制作离型膜：在基膜上涂布一层可转移的离型层，烘干，制成离型膜。

②设计涂布辊：按照光栅排列的方向设计间隔的点阵图，将所述点阵图雕刻在辊上。

③制备信息层：将光子晶体、相容性稀释剂及无机填料混合搅拌，让光子晶体与无机填料完全融合，制成信息层。

④涂布信息层：将步骤③中制成的信息层经步骤②中设计的网辊涂布在步骤①中离型膜的离型层上，制成镭射材料。

⑤将步骤④中制成的镭射材料设有离型层和信息层的一面或者镭射材料的两面进行真空镀铝。

⑥根据需求分切制成成品。

进一步地，所述步骤①中使用涂布机完成涂布工艺，涂布机优选的采用120-200目的陶瓷网纹辊，基膜采用聚酯薄膜，基膜厚度优选的为12-18μm，既不会因为太薄而容易变形也不会因太厚而增加生产成本；为了达到更好的效果，涂布速度控制在100-150m/min之间，涂布量控制在0.5-0.7g/㎡，烘干温度可控制在80-160℃之间。

进一步地，步骤①中的离型层材料为丙烯酸树脂。

进一步地，步骤③中所使用的光子晶体为聚苯乙烯光子晶体，将光子晶体、相容性稀释剂与无机填料在搅拌机内高速搅拌融合，搅拌速度控制在为1500-2000转/min之间,搅拌20-30分钟，让光子晶体与无机填料完全融合，制成信息层，需要说明的是，光子晶体与无机填料可按任意比例混合溶于相容性稀释剂中，一般根据所需镭射效果的强弱调整光子晶体的含量，光子晶体的比例越高，镭射效果越强。

进一步地，步骤③中所使用的无机填料为二氧化硅、磷粉或者二氧化硅和磷粉按任意比例混合的混合物；

进一步地，步骤③中所使用的相容性稀释剂为酒精和纯净水的混合物，优选的，该混合物的组分按重量百分数计，酒精为80％，纯净水为20％。

进一步地，第二次涂布所使用的网辊为网点网纹钢辊，钢辊上的网点网纹为按照光栅排列的方向设计成点阵图，通过激光雕刻于网辊上，网点网纹间隔100-300目。

进一步地，步骤④中涂布速度可控制在100-150m/min之间，涂布量控制在1.5-2.5g/㎡，根据设计的涂布网辊涂布在离型膜上，可呈现出不同的镭射图案。

进一步地，通过真空镀铝，镀层控制在380-420埃，提高激光图案的效果，也可以在表面镀介质层。