[发明专利]一种镀铝镭射材料的生产工艺及镭射材料在审
| 申请号： | 201811240610.3 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN109435514A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 梁波;张涛 | 申请（专利权）人： | 中丰田光电科技（珠海）有限公司 |
| 主分类号： | B41M1/12 | 分类号： | B41M1/12;B41M1/22;B41M3/06;C09D125/06;C09D7/61 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 卢泽明 |
| 地址： | 519000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镭射材料 制备 镭射效果 离型膜 涂布辊 信息层 镀铝 镍板 生产工艺 工艺条件要求 生产效率 涂布工序 涂布工艺 镭射版 镭射膜 电镀 镭射 膜压 制作 节约 污染 开发 | ||
1.一种镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
①制备离型膜：在基膜上涂布一层可转移的离型层，烘干，制成离型膜；
②设计涂布辊：按照光栅排列的方向设计间隔点阵图，将所述点阵图雕刻在辊上；
③制备信息层：将光子晶体、相容性稀释剂及无机填料混合搅拌，让光子晶体与无机填料完全融合，制成信息层；
④涂布信息层：将步骤③中制成的信息层经步骤②中设计的网辊涂布在步骤①中离型膜的离型层上，制成镭射材料；
⑤将步骤④中制成的镭射材料设有离型层和信息层的一面或者镭射材料的两面进行真空镀铝；
⑥根据需求分切制成成品。
2.根据权利要求1所述的镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于：所述基膜为聚酯薄膜，厚度12-18μm。
3.根据权利要求1所述的镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，所述步骤①中离型层为丙烯酸树脂。
4.根据权利要求1所述的镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，所述光子晶体为聚苯乙烯光子晶体。
5.根据权利要求1所述的镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，所述步骤③中所使用的无机填料为二氧化硅和/或磷粉。
6.根据权利要求1所述的镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，所述步骤③中相容性稀释剂为酒精和纯净水的混合物。
7.根据权利要求6所述的镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，所述酒精和纯净水混合物按重量百分数计的混合比例为酒精：水＝80％：20％。
8.一种镭射材料，其特征在于，其是按照如权利要求1-7任一项所述的工艺步骤制备得到的。
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