[发明专利]过滤器润湿系统及供液系统

说明书

本发明提供一种过滤器润湿系统及供液系统。过滤器润湿系统包括过滤装置、排放管路及润湿管路，过滤装置包括至少一个过滤器；排放管路与过滤装置的排污口相连接，用于排放经过滤装置过滤后产生的残液；润湿管路一端与排放管路相连接，用于对备用过滤器进行预润湿。供液系统包括供液管路、过滤装置、喷涂装置、排放管路及润湿管路，所述供液管路一端连接至液体供给源。采用本发明的过滤器润湿系统及供液系统可以在正常的供液过程中进行备用过滤器的预润湿而无需占用设备的工作时段，可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

技术领域

本发明属于集成电路制造领域，特别是涉及一种有机溶剂的过滤器润湿系统及供液系统。

背景技术

光刻工艺是半导体制造工艺中非常重要的工艺，它是在光照作用下，借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基底上的过程。光刻工艺过程中需要使用光刻胶和显影液等多种有机溶剂，而如果有机溶剂中含有气泡或颗粒等杂质，将导致转移图形的品质下降甚至导致图形转移完全失败。因而在现有的光刻工艺的用于供应有机溶剂的供液系统中，需要使用过滤器去除有机溶剂当中含有的气泡和颗粒等杂质。过滤器的材质通常分为亲水性材质和疏水性材质，疏水性材质的过滤器在使用前通常需要预润湿，只有经过充分预润湿的过滤器才能用于过滤。因为如果过滤器不经润湿或润湿不充分就会产生气泡，气泡的产生一方面会造成喷涂系统的压力不稳定，另一方面气泡随光阻喷涂到基底表面会导致光刻图形缺陷，影响产品良率，所以对此类疏水性材质的过滤器在使用前进行预润湿非常重要。现有技术中并没有专门的预润湿装置。为防止过滤器在预润湿过程中被污染，现有技术中都是利用设备本身的供液管路给对应的备用过滤器做预润湿，但预润湿时间可能长达12小时以上，严重影响设备的产出及复机时间。这对于动辄上亿的光刻设备而言是一种极大的浪费，导致不必要的制造成本上升。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种过滤器润湿系统及供液系统，用于解决现有技术中因利用供液管路给备用过滤器做预润湿，导致设备的产出率下降、生产成本上升等问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种过滤器润湿系统，包括过滤装置、排放管路及润湿管路，所述过滤装置包括至少一个过滤器；所述排放管路与所述过滤装置的排污口相连接，用于排放经所述过滤装置过滤后产生的残液；所述润湿管路一端与所述排放管路相连接，用于对备用过滤器进行预润湿。

可选地，所述过滤装置包括一个过滤器，所述过滤器包括进液口、出液口及排污口，所述过滤器的进液口、出液口及排污口与所述过滤装置的进液口、出液口及排污口一一对应。

在另一可选方案中，所述过滤装置包括第一过滤器和第二过滤器，所述第一过滤器和所述第二过滤器均包括进液口、出液口及排污口，所述第一过滤器的进液口与所述过滤装置的进液口相对应，所述第一过滤器的出液口与所述第二过滤器的进液口相连接，所述第二过滤器的排污口与所述排放管路相连接。

在一可选方案中，所述润湿管路的另一端与所述排放管路相连接，所述备用过滤器连接于所述润湿管路上。

可选地，所述润湿管路上设置有过滤器支架，用于放置所述备用过滤器。

可选地，所述润湿管路上设置有阀门，所述阀门设置于所述润湿管路与所述排放管路相邻的一端。

可选地，所述过滤器润湿系统还包括回收容器，所述回收容器与所述排放管路相连接，用于回收所述排放管路排放的残液。

更可选地，所述过滤器润湿系统还包括延时器，所述延时器与所述阀门相连接，用于在经设定的时间后将所述阀门关闭。

在另一可选方案中，所述润湿管路的另一端与所述回收容器相连接。