[发明专利]纳米粒子、显示基板的制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种纳米粒子，其特征在于，包括纳米颗粒，以及

连接于所述纳米颗粒表面的第一配体和第二配体；

所述第一配体具有碱溶性，所述第二配体受热后可发生交联；

所述第一配体包括酚羟基、酯基、氰基、9-芴甲氧羰基、和C1～C20的卤代烃基中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的纳米粒子，其特征在于，所述纳米粒子为量子点，所述量子点包括无机核/壳结构的纳米颗粒，所述第一配体和第二配体连接于所述无机核/壳结构纳米颗粒的表面。

3.根据权利要求1或2所述的纳米粒子，其特征在于，所述第二配体包括烃基、炔基和环氧基中的一种或多种。

4.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：将权利要求1～3任意一项所述的纳米粒子涂布在基板上，形成纳米粒子层；

步骤2：在所述纳米粒子层上涂布正性光刻胶，前烘处理后，采用掩膜板对所述正性光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域；

步骤3：进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，暴露出的纳米粒子层溶于碱性显影液中，脱离所述基板后被去除；

步骤4：进行后烘处理，所述光刻胶保留区域覆盖的纳米粒子的第二配体之间发生交联反应，所述光刻胶保留区域覆盖的纳米粒子层固定在所述基板上；

步骤5：剥离所述光刻胶保留区域的光刻胶，完成纳米粒子层的图案化。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述纳米粒子为量子点。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，采用旋涂法、夹缝式挤压型涂布法、刮刀涂布法中的至少一种方式将所述量子点涂布在基板上。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，重复执行步骤1至步骤5，得到具有多种颜色的对应于多个发光亚像素的图案化的量子点层。

8.根据权利要求4～7任意一项所述的制备方法，其特征在于，剥离所述光刻胶保留区域的光刻胶时，采用的剥离液为极性有机溶液。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4～8中任意一项所述方法制备的显示基板。