[发明专利]一种硅麦克风PCB板的VOP制作方法在审
申请号: | 201811204598.0 | 申请日: | 2018-10-16 |
公开(公告)号: | CN109362178A | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 郑朝屹;陈洁亮;张静;廖强 | 申请(专利权)人: | 欣强电子(清远)有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/06;H05K3/42;H05K3/26 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 高志军 |
地址: | 511500 广东省清远市清远*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 硅麦克风 制程 生产周期 蚀刻 图像 化学药品 二次电镀 加工效率 树脂塞孔 图像转移 选择材料 优化设计 工具孔 曝光机 钻孔机 凹陷 底片 钻头 板子 裁切 层间 导通 断板 干膜 螺丝 盲孔 磨痕 拼版 切力 去膜 显影 制作 生产成本 报废 | ||
本发明公开了一种硅麦克风PCB板的VOP制作方法,包括如下步骤:根据实际要求选择材料并根据厂内工作拼版进行裁切,利用钻孔机将钻头高速旋转,形成穿切力,将板子钻出所需的“洞”,作为上零件,锁螺丝&层与层间之导通或后制程所需之工具孔,利用曝光机透过底片将所需之图像转移至干膜上,再经由化学药品将图像作显影、蚀刻和去膜,然后出所需之图像。本发明采用优化设计,使用盲孔代替树脂塞孔、研磨和二次电镀制程,取消了研磨,解决了由于研磨造成的涨缩变异,断板,磨痕,凹陷等报废问题,同时通过本设计可以降低PCB板的生产成本和生产周期,从而极大地提高了PCB板的加工效率,可大面积推广使用。
技术领域
本发明涉及集成电路领域,具体是一种硅麦克风PCB板的VOP制作方法。
背景技术
硅麦克风又称MEMS麦克风,是基于MEMS技术制造的麦克风,由MEMS声压传感器芯片,ASIC芯片,音腔和RF抑制电路组成,MEMS声压传感器是一个由硅振膜和硅背极板构成的微型电容器,能将声压变化转化为电容变化,然后由ASIC芯片将电容变化转化为电信号,实现“声”到“电”的转换,传统的硅麦克风的印刷电路板,为了实现有内埋腔体结构,业界做法为使用三个不同厚度要求的双面板进行堆叠,堆叠过程使用锡膏进行黏合,因为三个子板板厚堆叠板厚是固定的,一般在1.0mm,为了更好的声学效果,中间空腔厚度要求越来越厚,因而压缩到外层两个子板的板厚,通常最外面两个子板成品厚度8-10mil之间,使用基板厚度4-5mil,而且有VOP设计,为了实现VOP设计,一般采用了传统的树脂塞孔+研磨+二次电镀实现,但是这样的流程同时带来了诸多的品质异常,给生产带来难度,良率偏低且生产周期长。因此,本领域技术人员提供了一种硅麦克风PCB板的VOP制作方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种硅麦克风PCB板的VOP制作方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种硅麦克风PCB板的VOP制作方法,包括如下步骤:
1)、发料/裁板:根据实际要求选择材料并根据厂内工作拼版进行裁切;
2)、钻孔:利用钻孔机将钻头高速旋转,形成穿切力,将板子钻出所需的“洞”,作为上零件,锁螺丝&层与层间之导通或后制程所需之工具孔;
3)、MASK:利用曝光机透过底片将所需之图像转移至干膜上,再经由化学药品将图像作显影、蚀刻和去膜,然后出所需之图像,改制程把镭射孔位置的铜皮蚀刻掉,以便后工站进行镭射制作;
4)、镭射:a、利用X射线测定两个或两个以上的基准靶标的坐标位置,通过特定的Camera读取靶标的坐标计算实际板涨缩;b、读取完涨缩与盲孔镭射程式进行重心重合比对,进行涨缩补偿镭射加工作业;c、通过直接读靶对位,可避免因钻孔品质不良造成的涨缩对准度问题及品质风险;d、正反面加工模式同上步骤a、b;从而完成利用激光能量对PCB板进行钻孔;
5)、电镀:藉由化学药品,将钻孔所钻之孔镀上铜层,使得层与层之间得以导通;
6)、负片干膜&酸性:在已作完钻孔电镀板子上,压上干膜,利用曝光机透过底片将所需之图像转移至干膜上,再经由化学药品将图像作显影、蚀刻和去膜,然后出所需之图像线路,最后利用A.O.I(自动光学检验)作线路之检修,一齐完成外层线路之制作;
7)、防焊:在线路丝印防焊油墨及曝光显影;
8)、表面处理:对PCB进行表面处理,采用打磨机对盲孔周围的毛刺和凸起进行打磨抛光,并将PCB表面附着的灰尘进行清扫;
9)、成型:在PCB板的待切割区域进行标记,然后通过切割机将PCB板切成实际生产要求的形状,并对切割后的PCB板大小进行测量,然后将切割后的边角进行整修处理;
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