[发明专利]用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统及方法

权利要求书

1.一种用于样本的缺陷检测及光致发光测量的系统，其包括：

第一辐射源，其经配置以将第一光束引导到所述样本的一部分上；

第二辐射源，其经配置以将第二光束引导至所述样本的一部分上，其中所述第二光束适于引起所述样本的一或多个光致发光缺陷发射光致发光的光；

一组收集光学器件，其经配置以收集来自所述样本的辐射，来自所述样本的所述辐射包含由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的至少光致发光辐射；

滤波器子系统，其经配置以接收由所述组收集光学器件收集的所述辐射的至少一部分，其中所述滤波器子系统经配置以将来自所述样本的所述辐射分离成两个或更多个辐射部分，其中至少第一辐射部分包含与由所述样本的所述一或多个光致发光缺陷发射的所述光相关联的可见光谱或近红外光谱中的一或多个波长；

检测子系统，其包含用于测量由所述滤波器子系统传输的所述第一辐射部分的一或多个特性的至少第一传感器；以及

控制器，其以通信方式耦合到至少所述第一传感器，所述控制器经配置以基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性检测一或多个光致发光缺陷。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以通过将在所述样本的不存在光致发光缺陷的区域中来自所述第一传感器的信号与从所述样本的经测量区域获取的来自所述第一传感器的信号进行比较，基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性来检测一或多个光致发光缺陷。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性以及经检测的所述一或多个光致发光缺陷的位置来映射经检测的所述一或多个光致发光缺陷。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以基于由所述第一传感器测量的所述一或多个特性对经检测的所述一或多个光致发光缺陷进行分类。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本的所述一或多个光致发光缺陷包括：

一或多个堆垛层错缺陷及一或多个基面位错中的至少一者。

6.根据权利要求1所述的系统，所述样本为半导体装置。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述半导体装置为宽带隙半导体装置。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一辐射源和所述第二辐射源中的至少一者为激光器。

9.根据权利要求8所述的系统，其中所述第一辐射源和所述第二辐射源中的至少一者为紫外激光器。

10.根据权利要求8所述的系统，其中所述第一辐射源和所述第二辐射源中的至少一者为连续波CW激光器。

11.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括：

样本台组合件，其经配置以紧固所述样本且选择性致动所述样本以便使用至少所述第一辐射源及所述第二辐射源执行扫描过程。

12.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一传感器包含光电倍增管PMT。

13.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一传感器经配置以测量从所述样本的一或多个光致发光缺陷发射的可见光致发光的光及近红外光中的至少一者。

14.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括：

第二传感器，其经配置以测量来自所述样本的一或多个缺陷的在与由所述第二辐射源发射的光对应的波长下的散射辐射。

15.根据权利要求14所述的系统，其进一步包括：

第三传感器，其经配置以测量来自所述样本的一或多个缺陷的在与由所述第一辐射源发射的光对应的波长下的散射辐射。