[发明专利]阵列基板及其形成方法、显示面板

说明书

本发明涉及一种阵列基板及其形成方法、显示面板。该方法包括：形成一平坦化层，所述平坦化层包括具有通孔的第一区域和与所述第一区域相邻的第二区域；在所述平坦化层的第一区域上形成阳极，所述阳极填充所述通孔；对所述平坦化层和所述阳极进行加热；对所述平坦化层和所述阳极进行梯次降温，以使所述平坦化层的第一区域具有对第二区域的预应力。该预应力可以抵消阵列基板弯折产生的弯折应力，从而避免阵列基板由于弯折次数过多造成的膜层开裂或褶皱，进而提升使用该阵列基板的显示面板的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示技术，特别是涉及阵列基板及其形成方法、显示面板。

背景技术

近年来，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器已经逐步取代LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)显示器，成为显示器市场中的主流产品。OLED显示器通常包括阵列基板及设于阵列基板上的发光像素。

传统的OLED阵列基板，通常由层叠的柔性衬底、TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)、平坦化层等膜层构成。

申请人在实现传统技术的过程中发现：传统的阵列基板，在受外力弯曲时，随着弯折次数的上升容易出现功能膜层开裂的问题。

发明内容

基于此，有必要针对传统技术中随着弯折次数的上升阵列基板容易出现功能膜层开裂的问题，提供一种阵列基板及其形成方法、显示面板。

一种阵列基板，包括功能膜层及覆盖于所述功能膜层的部分表面的金属材料；所述功能膜层覆盖有金属材料的区域具有对所述功能膜层未覆盖有金属材料的区域的预应力。

在其中一个实施例中，所述功能膜层包括平坦化层，所述平坦化层包括第一区域和与第一区域相邻的第二区域，所述第一区域具有通孔；所述第一区域具有对所述第二区域的预应力，用于对抗所述阵列基板弯折时产生的弯折应力；所述金属材料包括阳极，所述阳极层叠于所述平坦化层的第一区域，且所述阳极填充所述通孔。

在其中一个实施例中，所述功能膜层包括柔性衬底，所述柔性衬底包括第三区域和与第三区域相邻的第四区域；所述第三区域具有对所述第四区域的预应力，用于对抗所述阵列基板弯折时产生的弯折应力；所述金属材料包括TFT器件；所述TFT器件层叠于所述柔性衬底的第三区域；相邻TFT器件之间填充有绝缘材料；所述平坦化层层叠于所述TFT器件和所述绝缘材料上，且所述阳极通过所述通孔与所述TFT器件连接。

在其中一个实施例中，所述功能膜层包括像素限定层，所述像素限定层包括第五区域和与第五区域相邻的第六区域，所述第五区域层叠于所述阳极上，所述第六区域层叠于所述平坦化层的第二区域上；所述第五区域具有对所述第六区域的预应力，用于对抗所述阵列基板弯折时产生的弯折应力。

一种阵列基板的形成方法，包括如下步骤：在功能膜层的部分表面形成金属材料；对所述功能膜层和所述金属材料进行加热；对所述功能膜层和所述金属材料进行梯次降温，以使所述功能膜层覆盖有金属材料的区域具有对所述功能膜层未覆盖有金属材料的区域的预应力。

在其中一个实施例中，所述方法具体包括如下步骤：形成一作为功能膜层的平坦化层，所述平坦化层包括具有通孔的第一区域和与所述第一区域相邻的第二区域；在所述平坦化层的第一区域上形成阳极，所述阳极填充所述通孔；

对所述平坦化层和所述阳极进行加热；对所述平坦化层和所述阳极进行梯次降温，以使所述平坦化层的第一区域具有对第二区域的预应力。