[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

说明书

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括基板、形成于所述基板之上的功能层和形成于所述功能层之上的封装层，所述封装层包括位于所述功能层上的无机层，所述无机层包括第一类氧化物层和第二类氧化物层，所述第一类氧化物层与所述第二类氧化物层的原子层数比的范围为3:1至1:4。本申请可在显示面板的透光率满足要求的同时改善显示面板的耐弯折性能。

技术领域

本申请涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

柔性显示装置具有可弯曲或可折叠等特点，被广泛用于移动通讯终端、平板电脑、电子书、导航设备等诸多电子器件中。

现有的柔性显示装置中，封装层中因含有无机层，导致封装层的耐弯折性能较差，影响柔性显示装置的显示效果和使用寿命。

发明内容

根据本申请实施例的第一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：

基板；

位于所述基板之上的功能层；

位于所述功能层之上的封装层，所述封装层包括位于所述功能层上的无机层，所述无机层包括第一类氧化物层和第二类氧化物层，所述第一类氧化物层与所述第二类氧化物层的原子层数比的范围为3:1至1:4。

在一个实施例中，所述第一类氧化物层与所述第二类氧化物层交替排布。

在一个实施例中，所述第一类氧化物层和第二类氧化物层的原子层数比为1:1至1:4，优选地，所述第一类氧化物层和第二类氧化物层的原子层数比为1:3。

在一个实施例中，所述第一类氧化物层的透光率大于所述第二类氧化物层，

和/或，所述第二类氧化物层的耐弯折能力高于所述第一类氧化物层。

在一个实施例中，所述第一类氧化物层包括氧化铝膜层、氧化硅膜层或氮化硅膜层，所述第二类氧化物层包括氧化钛膜层。

在一个实施例中，所述第一类氧化物层和所述第二类氧化物层的总原子层数的范围为100层至1000层。

在一个实施例中，所述无机层的厚度范围为20nm至100nm。

根据本申请实施例的第二方面，提供了一种显示面板的制备方法，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板上形成功能层；

采用原子层沉积工艺在所述功能层上形成无机层，所述无机层包括第一类氧化物层和第二类氧化物层，所述第一类氧化物层的透光率大于所述第二类氧化物层，所述第二类氧化物层的耐弯折能力高于所述第一类氧化物层，所述第一类氧化物层与所述第二类氧化物层的原子层数比的范围为3:1至1:4。

在一个实施例中，所述第一类氧化物层的透光率大于所述第二类氧化物层，和/或所述第二类氧化物层的耐弯折能力高于所述第一类氧化物层。

根据本申请实施例的第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。

本申请实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置，位于功能层上的无机层包括第一类氧化物层和第二类氧化物层，第一类氧化物层和第二类氧化物层的比例范围在3:1至1:4之间，可保证显示面板的透光率满足要求的同时改善显示面板的耐弯折性能，进而改善显示面板的使用寿命及显示效果。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

图1为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；