[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

基板(1)；

位于所述基板(1)之上的功能层(2)；

位于所述功能层(2)之上的封装层(3)，所述封装层(3)包括位于所述功能层(2)上的无机层(31)，所述无机层(31)包括第一类氧化物层(311)和第二类氧化物层(312)，所述第一类氧化物层(311)的透光率大于所述第二类氧化物层(312)，所述第二类氧化物层(312)的耐弯折能力高于所述第一类氧化物层(311)，所述第一类氧化物层(311)与所述第二类氧化物层(312)的原子层数比的范围为1:3至1:4，所述第一类氧化物层(311)和所述第二类氧化物层(312)的总原子层数的范围为300层至1000层；

所述显示面板的透光率大于90％。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一类氧化物层(311)与所述第二类氧化物层(312)交替排布。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述第一类氧化物层(311)包括氧化铝膜层、氧化硅膜层或氮化硅膜层，所述第二类氧化物层(312)包括氧化钛膜层。

4.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述无机层(31)的厚度范围为20nm至100nm。

5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板上形成功能层；

在所述功能层上形成无机层，所述无机层包括第一类氧化物层和第二类氧化物层，所述第一类氧化物层的透光率大于所述第二类氧化物层，所述第二类氧化物层的耐弯折能力高于所述第一类氧化物层，所述第一类氧化物层与所述第二类氧化物层的原子层数比的范围为1:3至1:4，所述第一类氧化物层(311)和所述第二类氧化物层(312)的总原子层数的范围为300层至1000层；

所述显示面板的透光率大于90％。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，在所述功能层上形成无机层，包括采用原子层沉积工艺在所述功能层上形成无机层。

7.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-4任一项所述的显示面板。