[发明专利]可旋转加热静电夹盘

说明书

一种静电夹盘包括：介电盘，具有支撑基板的支撑表面以及相对的第二表面，其中至少一个夹持电极设置于所述介电盘内；射频(RF)偏压板，设置在所述介电盘下方；多个灯，设置在所述射频偏压板下方以加热所述介电盘；金属板，设置在这些灯下方以吸收由这些灯产生的热；轴杆，在所述轴杆的第一端耦接至所述介电盘的所述第二表面以支撑所述介电盘而使所述介电盘与所述射频偏压板呈间隔开的关系，且所述轴杆延伸离开所述介电盘且延伸穿过所述射频偏压板和所述金属板；以及旋转组件，耦接至所述轴杆以使所述轴杆和所述介电盘相对于所述射频偏压板、灯、以及金属板旋转。

本申请是申请日为2014年12月8日、申请号为201480067593.1、发明名称为“可旋转加热静电夹盘”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本公开案的实施方式大体涉及静电夹盘(electrostatic chuck)，所述静电夹盘用于在微电子器件制造工艺中保持(retain)基板。

背景技术

在基板上形成一些器件(例如STT-RAM)需要多层薄膜，这些薄膜是在沉积腔室中沉积，所述沉积腔室比如物理气相沉积(PVD)腔室。在一些实施方式中，基板需要在沉积工艺期间旋转，以获得良好的膜均匀性。沉积一些层也可能需要基板受到加热。此外，沉积工艺需要高真空压力。静电夹盘经常用于在沉积工艺期间将基板静电保持在基板支撑件上。通常，静电夹盘包括陶瓷主体，所述陶瓷主体中设置有一或多个电极。一般的静电夹盘仅垂直向上及向下移动，以有助于基板的移送。然而，发明人已观察到，这样的移动限制会阻止使用这些习知的静电夹盘进行离轴(off-axis)沉积，所述离轴沉积是由于基板上有非均匀沉积。

因此，发明人已提供改良的可旋转(rotatable)加热静电夹盘的实施方式。

发明内容

本文提供可旋转加热静电夹盘的实施方式。在一些实施方式中，一种静电夹盘包括：介电盘，具有支撑基板的支撑表面以及相对的第二表面，其中至少一个夹持电极设置于所述介电盘内；射频(RF)偏压板，设置在所述介电盘下方；多个灯，设置在所述射频偏压板下方以加热所述介电盘；金属板，设置在所述多个灯下方以吸收由所述多个灯产生的热；轴杆，所述轴杆的第一端耦接至所述介电盘的所述第二表面以支撑所述介电盘而使所述介电盘与所述射频偏压板呈间隔开的关系，且所述轴杆延伸离开所述介电盘且延伸穿过所述射频偏压板和所述金属板；以及旋转组件，耦接至所述轴杆以使所述轴杆和所述介电盘相对于所述射频偏压板、所述多个灯、以及所述金属板旋转。

在一些实施方式中，一种静电夹盘包括：介电盘，具有支撑基板的支撑表面以及相对的第二表面，其中至少一个夹持电极设置于所述介电盘内；射频(RF)偏压板，设置在所述介电盘下方；电感滤波器(inductor filter)，设置在耦接至所述至少一个夹持电极的导体周围，以将与所述至少一个夹持电极的射频干扰减至最小；多个灯，设置在所述射频偏压板下方以加热所述介电盘；金属板，设置在所述多个灯下方以吸收由所述多个灯产生的热；轴杆，在所述轴杆的第一端耦接至所述介电盘的所述第二表面以支撑所述介电盘而使所述介电盘与所述射频偏压板呈间隔开的关系，且所述轴杆延伸离开所述介电盘且延伸穿过所述射频偏压板和所述金属板；以及磁性旋转组件，耦接至所述轴杆以使所述轴杆和所述介电盘相对于所述射频偏压板、所述多个灯、以及所述金属板旋转，其中所述磁性旋转组件包括内磁体与外磁体，所述内磁体附接至所述轴杆的下部分而接近所述轴杆的第二端，所述第二端与所述第一端相对，所述外磁体设置在所述内磁体周围以驱动所述内磁体的旋转。