[发明专利]金属材料加工方法

说明书

一种金属材料加工方法，包括如下步骤：S1:提供一金属基材；S2:通过氧化工艺在所述的金属基材表面上形成氧化膜；S3:在所述的氧化膜上方喷涂漆层；S4:通过高光切割工艺形成一切割面，所述的切割面包括膜层断面和金属高光面；S5:通过PVD真空镀膜工艺在所述的切割面上形成稀有金属氧化物膜层。本发明具有以下有益效果：增强金属高光面的物理性能和化学性能，可靠性测试时间延长（如盐雾测试/弱酸性测试/高温高湿测试等），满足多元化外观需求。

技术领域

本发明涉及一种金属材料加工方法。

背景技术

为了追求笔记本电脑、手机等多媒体设备的轻薄化设计,产品设计中经常使用金属材料加工后作为外壳，例如镁合金、铝合金、不锈钢SUS等。为追求多元化的外观，金属材料在涂装、印刷、阳极等外观工艺处理后，需要对金属进行切割形成棱角的设计感，而切割后的金属高光面会裸露出来，如果先进行切割然后涂装印刷则又会将切割后的金属高光面填充覆盖，无法实现金属高光面的设计感。参见附图1和附图2所示，附图1描述了高倍显微镜下未被氧化的金属高光面状态（图中右侧高光部分），附图2描述了高倍显微镜下被氧化的金属高光面状态（图中右侧高光部分的黑色氧化部分）。因此，需要一种能够增强裸露的金属高光面的抗氧化能力满足客户使用需求及测试需求的方案。

发明内容

为了解决现有技术的问题，本发明的目的是提供一种全新的工艺流程，来增强金属高光面的抗氧化能力。

为达到以上目的，本发明提供了一种金属材料加工方法，包括如下步骤：

S1:提供一金属基材；

S2:通过氧化工艺在所述的金属基材表面上形成氧化膜；

S3:在所述的氧化膜上方喷涂漆层；

S4:通过高光切割工艺形成一切割面，所述的切割面包括膜层断面和金属高光面；

S5:通过PVD真空镀膜工艺在所述的切割面上形成稀有金属氧化物膜层。

根据本发明进一步的改进，所述的金属基材包括镁合金或铝合金。

根据本发明进一步的改进，步骤S2中，所述的氧化工艺包括化成氧化或微弧氧化。

根据本发明进一步的改进，步骤S2中，所述的氧化膜的厚度为4微米至10微米。

根据本发明进一步的改进，步骤S3中，所述的漆层自下而上依次包括第一底漆层、第二底漆层、第一色漆层、第二色漆层。

根据本发明进一步的改进，步骤S3中，所述的漆层厚度为20微米至45微米。

根据本发明进一步的改进，步骤S4中，采用PCD/MCD刀具对产品进行切割成需要的高光样式。

根据本发明进一步的改进，步骤S4中，采用具有气浮主轴的切割机床，切割转速为50000Rpm至70000Rpm。

根据本发明进一步的改进，步骤S5中，所述的稀有金属氧化物膜层的厚度为0.2微米至2微米。

根据本发明进一步的改进，步骤S5中，包括至少8层稀有金属氧化物膜层，整体厚度为1.5至2微米。

本发明具有以下有益效果：增强金属高光面的物理性能和化学性能，可靠性测试时间延长（如盐雾测试/弱酸性测试/高温高湿测试等），满足多元化外观需求。

附图说明

附图1描述了高倍显微镜下未被氧化的金属高光面状态；

附图2描述了高倍显微镜下被氧化的金属高光面状态；

附图3描述了根据本发明的金属材料加工方法的流程图；