[发明专利]防污膜的制造方法

说明书

本发明提供即便模具的转印次数增加，也可以抑制聚合物层及模具的脱模性降低、且提高防污性及耐刮擦性的防污膜的制造方法。本发明的防污膜的制造方法是具有基材和聚合物层的防污膜的制造方法，该聚合物层配置于基材表面上，且于表面具有以可见光波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，该防污膜的制造方法包含：将第一树脂涂布于模具表面上的工序、将第二树脂涂布于基材表面上的工序、于将第一树脂及第二树脂夹于其间的状态下将基材抵压于模具上而形成于表面具有凹凸结构的树脂层的工序、及使树脂层硬化而形成聚合物层的工序，第一树脂含有至少一种氟系脱模剂和丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯，且以有效成分换算计而含有40～95重量％的丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯。

技术领域

本发明涉及一种防污膜的制造方法。更详细而言，涉及具有纳米尺寸的凹凸结构的防污膜的制造方法。

背景技术

对具有抗反射性的光学膜进行了各种研究(例如参照专利文献1、2)。特别是已知具有纳米尺寸凹凸结构(纳米结构)的光学膜具有优异的抗反射性。通过此种凹凸结构而使折射率从空气层到基材连续变化，因此可使反射光急遽地减少。

现有技术文献

专利文件

[专利文献1]日本专利特开2013-39711号公报

[专利文献2]日本专利特开2013-252689号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

然而，在此种光学膜中，虽然具有优异的抗反射性，但另一方面其表面为凹凸结构，因此如果附着指纹(皮脂)等污垢，则附着的污垢容易扩散，此外变得难以擦掉凸部间所进入的污垢。而且，由于其反射率与光学膜的反射率有较大不同，因此容易视认所附着的污垢。因此，需求于表面具有纳米尺寸的凹凸结构，对污垢的擦拭性(例如指纹擦拭性)、亦即防污性优异的功能性膜(防污膜)。

本发明者等人对此进行了研究，结果可知：如果在光学膜的构成凹凸结构的聚合物层中调配氟系脱模剂作为其构成材料，则防污性提高。另外可知：如果调配单官能酰胺单体，则与氟系脱模剂的相容性提高，氟系脱模剂中的有效成分变得容易取向于聚合物层的表面，因此对于提高防污性而言有效。

然而，本发明者等人进一步进行了研究，结果可知：在形成聚合物层的凹凸结构时使用模具的情况下，如果调配单官能酰胺单体作为聚合物层的构成材料，则随着模具转印次数的增加，聚合物层及模具的脱模性容易降低，结果所获得的防污膜的防污性容易降低。而且可知：如果单官能酰胺单体的调配量多，则聚合物层的交联密度难以提高，结果耐刮擦性容易降低。

如上所述，先前就存在如下课题：在制造防污膜时，即便模具的转印次数增加，也可以抑制聚合物层及模具的脱模性降低，且提高防污性及耐刮擦性。然而并未发现解决上述课题的技术手段。例如，在上述专利文献1、2中，并无关于随着模具的转印次数增加，聚合物层及模具的脱模性降低的记载，且并未解决上述课题。

本发明是鉴于上述现状而成的，其目的在于提供即便模具的转印次数增加，也可以抑制聚合物层及模具的脱模性降低，且提高防污性及耐刮擦性的防污膜的制造方法。

解决问题的手段

本发明者等人关于即便模具的转印次数增加，也可以抑制聚合物层及模具的脱模性降低，且提高防污性及耐刮擦性的防污膜的制造方法而进行了各种研究，结果关注于将第一树脂涂布于模具表面上，将第二树脂涂布于基材表面上之后，使两树脂一体化的方法。而且发现了在第一树脂中调配氟系脱模剂和代替单官能酰胺单体的丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯，且将丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯的调配量设为规定范围的方法。想到由此可令人满意地解决上述课题，从而达成本发明。