[发明专利]防污膜的制造方法

权利要求书

1.一种防污膜的制造方法，所述防污膜具有基材和聚合物层，所述聚合物层配置于所述基材表面上，且于表面具有以可见光波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，其特征在于，包含：

工序(1)，将第一树脂涂布于模具表面上；

工序(2)，将第二树脂涂布于所述基材表面上；

工序(3)，于将所述第一树脂及所述第二树脂夹于其间的状态下，将所述基材抵压于所述模具上而形成于表面具有所述凹凸结构的树脂层；以及

工序(4)，使所述树脂层硬化而形成所述聚合物层，

所述第一树脂含有至少一种氟系脱模剂和丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯，且以有效成分换算计而含有40～95重量％的所述丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯。

2.如权利要求1的防污膜的制造方法，其特征在于，所述至少一种氟系脱模剂包含具有全氟聚醚基的氟系脱模剂、及具有全氟烷基的氟系脱模剂中的至少一者。

3.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于，所述第二树脂含有所述至少一种氟系脱模剂中的至少一者。

4.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于，所述第二树脂含有单官能酰胺单体。

5.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于，利用脱模处理剂对所述模具表面实施脱模处理。

6.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于，所述聚合物层的厚度为5.0～20.0μm。

7.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于，所述多个凸部的平均间距为100～400nm。

8.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于所述多个凸部的平均高度为50～600nm。

9.如权利要求1或2的防污膜的制造方法，其特征在于所述多个凸部的平均纵横比为0.8～1.5。