[发明专利]一种成像方法及装置

说明书

本发明提供了一种成像方法及装置，涉及图像处理领域，所述方法包括：在第一深度图像指示存在第一高光溢出区域的情况下，设置所述成像模组的曝光参数为第二曝光参数，所述第一深度图像为以第一曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；获取第二深度图像，根据所述第二深度图像对所述第一深度图像进行修复，所述第二深度图像为以第二曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；根据修复后的所述第一深度图像对所述目标对象进行成像。存在第一高光区域的情况下，根据第二曝光参数对应的第二深度图像，对第一深度图像进行修复，根据修复后的第一深度图像成像，在高光溢出发生的情况下，可以得到质量较好的图像。

技术领域

本发明涉及图像处理技术领域，特别是涉及一种成像方法及装置。

背景技术

成像模组通过发射激光并接收反射信号直接进行测距，具有空间分辨率更高，响应更快等特点，在人脸识别、三维重建等方面有着极大的应用前景。

成像模组，通过发射激光至目标物表面，并接收反射的信号进行距离探测，其距离的探测精度一方面与发射的信号强度有关，另一方面与接收到的信号强度有关。当成像模组接收到的信号过强时，光信号转换得到的电信号将超出成像模组的信号存储能力，造成深度数据溢出，对该区域以及临近区域的成像带来严重影响，这种现象称为高光溢出现象。

发明人在研究上述现有技术的过程中发现，上述现有技术方案存在如下缺点：高光溢出对成像模组成像带来较大影响，然而对于大多用户而言，并不了解什么是高光溢出，什么情况下会产生高光溢出，以及如何规避高光溢出等，导致，在高光溢出的情况下，成像模组成像质量差，用户体验不好。

发明内容

本发明提供一种成像方法及装置，旨在解决在成像模组成像过程中，在高光溢出情况下导致的成像模组成像质量差，用户体验不好问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种成像方法，应用于成像设备，所述成像设备包括成像模组，所述方法包括：

在第一深度图像指示存在第一高光溢出区域的情况下，设置所述成像模组的曝光参数为第二曝光参数，所述第一深度图像为以第一曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；

获取第二深度图像，根据所述第二深度图像对所述第一深度图像进行修复，所述第二深度图像为以第二曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；

根据修复后的所述第一深度图像对所述目标对象进行成像。

第二方面，本发明实施例还提供了一种成像装置，应用于成像设备，所述成像设备包括成像模组，包括：

曝光参数设置模块，用于在第一深度图像指示存在第一高光溢出区域的情况下，设置所述成像模组的曝光参数为第二曝光参数，所述第一深度图像为以第一曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；

修复模块，用于获取第二深度图像，根据所述第二深度图像对所述第一深度图像进行修复，所述第二深度图像为以第二曝光参数对目标对象进行成像得到的深度图像；

成像模块，用于根据修复后的所述第一深度图像对所述目标对象进行成像。

第三方面，本发明实施例还提供了一种移动终端，该移动终端包括处理器、存储器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时实现本发明所述的成像方法的步骤。

第四方面，本发明实施例还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质上存储计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现本发明所述的成像方法的步骤。