[发明专利]一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃

说明书

本发明涉及镀膜玻璃表面膜层的防护技术领域，特别涉及一种含锆膜层的镀膜玻璃的制备方法，镀膜玻璃包括玻璃基片、镀于玻璃基片上的功能膜层，镀于功能膜层表面的锆混合掺杂膜层，具体制备过程中在玻璃基片表面磁控溅射沉积一层或多层功能膜系，再在最外层的功能膜系表面磁控溅射沉积一层厚度为25‑30nm的锆混合掺杂膜层；沉积时的靶材为ZrSiAl和SiAl，置于同一溅射腔室内。所述锆混合掺杂膜层材料为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，所述SiNx的质量比为50%‑70%，两者总量为100%，所述锆混合掺杂膜层的厚度为25‑30nm。

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃表面膜层的防护技术领域，特别涉及一种含锆膜层的镀膜玻璃。

背景技术

镀膜玻璃由于其优良的性能已经在各领域得到了广泛的应用，然后，其在运输和储藏过程中，基片膜层容易划伤，摩损，并且其镀银层容易被破坏，如切片、磨边、夹层等处理后，物理化学性能容易发生改变，针对此问题目前国内大部分玻璃加工企业使用PE有机贴膜保护基片膜层，它可以起到一定的保护效果。然而，使用基片时，需要人工揭膜，而且保护膜不能重复利用，单位平米的玻璃就需要单平米的PE膜，成本较高，对环境造成严重的负面影响。

发明内容

本发明针对现有技术中镀膜玻璃贴附保护膜存在的上述问题，提供一种一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃，使制备的镀膜玻璃免去贴保护膜的过程，自身具备防划伤、防磨损的防护特性。

发明的目的是这样实现的，一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃，通过如下过程制得:

在玻璃基片表面的镀功能膜层，在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层，

各膜层自玻璃基向外依次包括：

镀制在玻璃基片上的基层电介质层，所述基层电介质层的材料为氧化钛，厚度约为12nm；

在基层电介质层上镀第1阻挡层，膜层材料是镍铬合金，厚度约为4nm；

在第1阻挡层上镀功能层，膜层材料为单质银，厚度为12nm；

在功能层上镀第2阻挡层，膜层材料为镍铬合金，厚度为1 nm；

在第2阻挡层上镀顶层电介质层，膜层材料为氧化硅，厚度为10nm；

在顶层电介质层上表面镀锆混合掺杂膜层，使用的靶材为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，所述SiNx的质量比为62%，膜层厚度为35nm。

具体实施方式

本实施例一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃，通过如下过程制得:

在玻璃基片表面的镀功能膜层，在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层，

各膜层自玻璃基向外依次包括：

镀制在玻璃基片上的基层电介质层，所述基层电介质层的材料为氧化钛，厚度约为12nm；

在基层电介质层上镀第1阻挡层，膜层材料是镍铬合金，厚度约为4nm；

在第1阻挡层上镀功能层，膜层材料为单质银，厚度为12nm；

在功能层上镀第2阻挡层，膜层材料为镍铬合金，厚度为1 nm；

在第2阻挡层上镀顶层电介质层，膜层材料为氧化硅，厚度为10nm；

在顶层电介质层上表面镀锆混合掺杂膜层，使用的靶材为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，所述SiNx的质量比为62%，膜层厚度为35nm。

对本实施例制得的含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃进