[发明专利]一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃在审
申请号: | 201811093057.5 | 申请日: | 2018-09-19 |
公开(公告)号: | CN110922062A | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 付红 | 申请(专利权)人: | 付红 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 225819 江苏省扬州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 含锆膜层 low 镀膜 玻璃 | ||
本发明涉及镀膜玻璃表面膜层的防护技术领域,特别涉及一种含锆膜层的镀膜玻璃的制备方法,镀膜玻璃包括玻璃基片、镀于玻璃基片上的功能膜层,镀于功能膜层表面的锆混合掺杂膜层,具体制备过程中在玻璃基片表面磁控溅射沉积一层或多层功能膜系,再在最外层的功能膜系表面磁控溅射沉积一层厚度为25‑30nm的锆混合掺杂膜层;沉积时的靶材为ZrSiAl和SiAl,置于同一溅射腔室内。所述锆混合掺杂膜层材料为SiNx和ZrSiOxNy的混合物,所述SiNx的质量比为50%‑70%,两者总量为100%,所述锆混合掺杂膜层的厚度为25‑30nm。
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃表面膜层的防护技术领域,特别涉及一种含锆膜层的镀膜玻璃。
背景技术
镀膜玻璃由于其优良的性能已经在各领域得到了广泛的应用,然后,其在运输和储藏过程中,基片膜层容易划伤,摩损,并且其镀银层容易被破坏,如切片、磨边、夹层等处理后,物理化学性能容易发生改变,针对此问题目前国内大部分玻璃加工企业使用PE有机贴膜保护基片膜层,它可以起到一定的保护效果。然而,使用基片时,需要人工揭膜,而且保护膜不能重复利用,单位平米的玻璃就需要单平米的PE膜,成本较高,对环境造成严重的负面影响。
发明内容
本发明针对现有技术中镀膜玻璃贴附保护膜存在的上述问题,提供一种一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,使制备的镀膜玻璃免去贴保护膜的过程,自身具备防划伤、防磨损的防护特性。
发明的目的是这样实现的,一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,通过如下过程制得:
在玻璃基片表面的镀功能膜层,在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层,
各膜层自玻璃基向外依次包括:
镀制在玻璃基片上的基层电介质层,所述基层电介质层的材料为氧化钛,厚度约为12nm;
在基层电介质层上镀第1阻挡层,膜层材料是镍铬合金,厚度约为4nm;
在第1阻挡层上镀功能层,膜层材料为单质银,厚度为12nm;
在功能层上镀第2阻挡层,膜层材料为镍铬合金,厚度为1 nm;
在第2阻挡层上镀顶层电介质层,膜层材料为氧化硅,厚度为10nm;
在顶层电介质层上表面镀锆混合掺杂膜层,使用的靶材为SiNx和ZrSiOxNy的混合物,所述SiNx的质量比为62%,膜层厚度为35nm。
具体实施方式
本实施例一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃,通过如下过程制得:
在玻璃基片表面的镀功能膜层,在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层,
各膜层自玻璃基向外依次包括:
镀制在玻璃基片上的基层电介质层,所述基层电介质层的材料为氧化钛,厚度约为12nm;
在基层电介质层上镀第1阻挡层,膜层材料是镍铬合金,厚度约为4nm;
在第1阻挡层上镀功能层,膜层材料为单质银,厚度为12nm;
在功能层上镀第2阻挡层,膜层材料为镍铬合金,厚度为1 nm;
在第2阻挡层上镀顶层电介质层,膜层材料为氧化硅,厚度为10nm;
在顶层电介质层上表面镀锆混合掺杂膜层,使用的靶材为SiNx和ZrSiOxNy的混合物,所述SiNx的质量比为62%,膜层厚度为35nm。
对本实施例制得的含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃进
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