[发明专利]一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃

权利要求书

1.一种含锆膜层的单银Low-E膜层的镀膜玻璃，通过如下过程制得

在玻璃基片表面的镀功能膜层，在功能膜层表面的镀锆混合掺杂膜层，

各膜层自玻璃基向外依次包括：

镀制在玻璃基片上的基层电介质层，所述基层电介质层的材料为氧化钛，厚度约为12nm；

在基层电介质层上镀第1阻挡层，膜层材料是镍铬合金，厚度约为4nm；

在第1阻挡层上镀功能层，膜层材料为单质银，厚度为12nm；

在功能层上镀第2阻挡层，膜层材料为镍铬合金，厚度为1 nm；

在第2阻挡层上镀顶层电介质层，膜层材料为氧化硅，厚度为10nm；

在顶层电介质层上表面镀锆混合掺杂膜层，使用的靶材为SiNx和ZrSiOxNy的混合物，所述SiNx的质量比为62%，膜层厚度为35nm。