[发明专利]一种真空磁控溅射设备的可程序挡板在审
| 申请号： | 201811089115.7 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN109023281A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 林孟君 | 申请（专利权）人： | 华泰（桐乡）玻璃明镜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/04 |
| 代理公司： | 安化县梅山专利事务所 43005 | 代理人： | 夏赞希 |
| 地址： | 314500 浙江省嘉兴市桐乡经济开发*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 挡板 真空磁控溅射设备 可程控器 金属膜层 图案 控制程序 推杆 可左右移动 信息传输线 致动器驱动 玻璃 玻璃表面 玻璃输送 成型技术 单方向性 挡板装置 控制挡板 图案程序 控制线 新颖性 移动量 致动器 靶材 推顶 下载 成型 载入 驱动 计算机 移动 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空磁控溅射设备的可程序挡板，包括：
一挡板，装置于推杆上由致动器驱动推顶，使挡板可左右移动；及
一推杆，连接致动器动作，一端连接挡板可左右推顶；及
一致动器，以控制线连接可程控器，连接推杆可前后推顶；及
一控制线，连接可程控器与致动器；及
一可程控器，可借由信息传输线连接计算机下载程序，并以控制线连接驱动致动器推顶挡板；及
一信息传输线，连接可程控器与计算机等信息设备。
2.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射设备的可程序挡板，其特征在于：所述挡板为一个以上。
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