[发明专利]显示器件、显示器件的制备方法和显示装置

说明书

本发明涉及一种显示器件、显示器件的制备方法和显示装置。显示器件包括：TFT阵列基板；发光层，设于所述TFT阵列基板上，所述发光层包括多个像素单元；散射层，设于所述TFT阵列基板与所述发光层之间，所述散射层包括阻光隔离墙和被所述阻光隔离墙隔开的多个散射单元，所述散射单元和所述像素单元的位置一一对应设置。该显示器件在基板和发光层之间增设与发光层像素单元一一对应的散射单元的散射层，能够防止波导模式的光损失，提高出光效率；同时，阻光隔离墙能够防止相邻像素单元之间因为散射光造成的串扰，避免模糊化现象，散射层还能改善因子像素排列不均匀导致的画质损失，达到提升了高分辨率显示器的显示效果，从而可满足高分辨率的要求。

技术领域

本发明涉及显示器技术领域，特别是涉及一种显示器件、显示器件的制备显示装置。

背景技术

随着对高分辨显示的需求不断提高，一些针对实现高分辨率的技术应运而生。尤其是当彩色像素生成的设备和生产工艺本身存在一定尺度限制的情况下，为了实现高分辨率所需的更小的像素尺寸，往往需要探索如何突破设备和工艺的分辨率限制。比如说，在印刷显示技术中，目前常见的喷墨打印设备的墨滴尺寸不可能无限缩小。相应地，打印像素也就只能在一定的尺寸以上才能被准确打印。而目前的设备工艺极限经常难以满足对于未来需要更高分辨率的要求，比如高分辨率的4K×2K以及8K×4K。

发明内容

基于此，有必要提供一种显示器件，能够提升高分辨率显示器的显示效果，从而满足高分辨率的要求。

一种显示装置，包括：

TFT阵列基板；

发光层，设于所述TFT阵列基板上，所述发光层包括多个像素单元；

散射层，设于所述TFT阵列基板与所述发光层之间，所述散射层包括阻光隔离墙和被所述阻光隔离墙隔开的多个散射单元，所述散射单元和所述像素单元的位置一一对应设置。

在其中一个实施例中，每个所述散射单元均围绕有所述阻光隔离墙。

在其中一个实施例中，所述显示器件还包括设于所述散射层与所述发光层之间的平坦层，所述阻光隔离墙还嵌入所述平坦层内。

在其中一个实施例中，所述平坦层的厚度为0.1μm～20μm，所述阻光隔离墙至少嵌入至所述平坦层的3/4。

在其中一个实施例中，所述散射单元至少包括折射率不同的两种村料，所述两种材料的折射率之差大于其中任一一种材料的折射率的15％。

在其中一个实施例中，所述两种材料中，其中一种材料的折射率小于等于 1.5，另一种材料的折射率大于等于1.9。

在其中一个实施例中，所述阻光隔离墙的制备原料包括光敏树脂和黑色染料。

在其中一个实施例中，所述散射单元的厚度为100nm～100μm。

本发明另一目的在于提供一种显示器件的制备方法，包括：

提供TFT阵列基板；

于所述TFT阵列基板上形成散射层，所述散射层包括阻光隔离墙和被所述阻光隔离墙隔开的多个散射单元；

于所述散射层上形成发光层，所述发光层包括多个像素单元，且所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应设置。

本发明又一目的在于提供一种显示装置，包括上述显示器件或者采用上述制备方法制备得到的显示器件。