[发明专利]显示器件、显示器件的制备方法和显示装置有效
| 申请号： | 201811086927.6 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110429196B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 陈颖;唐卫东 | 申请（专利权）人： | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L27/32 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 林青中 |
| 地址： | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 器件 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示器件，其特征在于，包括：
TFT阵列基板；
发光层，设于所述TFT阵列基板上，所述发光层包括多个像素单元；所述像素单元包括相邻设置的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；
散射层，设于所述TFT阵列基板与所述发光层之间，所述散射层包括阻光隔离墙和被所述阻光隔离墙隔开的多个散射单元，所述散射单元和所述像素单元的位置一一对应设置。
2.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，每个所述散射单元均围绕有所述阻光隔离墙。
3.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，所述显示器件还包括设于所述散射层与所述发光层之间的平坦层，所述阻光隔离墙还嵌入所述平坦层内。
4.根据权利要求3所述的显示器件，其特征在于，所述平坦层的厚度为0.1μm～20μm，所述阻光隔离墙至少嵌入至所述平坦层的3/4。
5.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，所述散射单元至少包括折射率不同的两种材料，所述两种材料的折射率之差大于其中任意一种材料的折射率的15％。
6.根据权利要求5所述的显示器件，其特征在于，所述两种材料中，其中一种材料的折射率小于等于1.5，另一种材料的折射率大于等于1.9。
7.根据权利要求1所述的显示器件，其特征在于，所述隔离墙的制备原料包括光敏树脂和黑色染料。
8.根据权利要求1～7任一所述的显示器件，其特征在于，所述散射单元的厚度为100nm～100μm。
9.一种显示器件的制备方法，其特征在于，包括：
提供TFT阵列基板；
于所述TFT阵列基板上形成散射层，所述散射层包括阻光隔离墙和被所述阻光隔离墙隔开的多个散射单元；
于所述散射层上形成发光层，所述发光层包括多个像素单元，且所述像素单元和所述散射单元的位置一一对应设置；
其中，所述像素单元包括相邻设置的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～8任一所述的显示器件或者采用权利要求9所述的制备方法制备得到的显示器件。
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