[发明专利]基板处理设备及其流体供应装置

权利要求书

1.一种流体供应装置，其特征在于，包括：

一导引单元，包括一固定台；

一设置于该固定台下方的第一流体传输单元，包括一第一摆臂喷洒组件，其中该第一流体传输单元连接该固定台；

一设置于该固定台上方的第二流体传输单元，包括一第二摆臂喷洒组件，其中该第一摆臂喷洒组件与该第二摆臂喷洒组件皆沿着一转轴而各自独立地相对于该固定台旋转；

一第一驱动单元，连接该第一流体传输单元，用以上下移动该第一摆臂喷洒组件、该第二摆臂喷洒组件与该固定台；以及

一第二驱动单元，连接该第二流体传输单元，用以上下移动该第二摆臂喷洒组件。

2.如权利要求1所述的流体供应装置，其特征在于，该第一摆臂喷洒组件包括一第一转轴、一第一喷嘴以及一第一悬臂，该第一悬臂的一端连接该第一转轴，该第一悬臂的另一端连接该第一喷嘴，该第一驱动单元用以驱动该第一转轴且带动该第一悬臂以该第一转轴为轴心摆动。

3.如权利要求2所述的流体供应装置，其特征在于，该第二摆臂喷洒组件包括一第二转轴、一第二喷嘴以及一第二悬臂，该第二悬臂的一端连接该第二转轴，该第二悬臂的另一端连接该第二喷嘴，该第二驱动单元用以驱动该第二转轴且带动该第二悬臂以该第二转轴为轴心摆动。

4.如权利要求3所述的流体供应装置，其特征在于，该第一驱动单元位于该固定台下方，且该第一转轴连接该固定台，该第二驱动单元固定于该固定台上，当该第一悬臂以该第一转轴为轴心而摆动时，该固定台相对于该第二驱动单元与该第一驱动单元静止不动，其中该第一悬臂的摆动不干涉该第二悬臂的摆动。

5.如权利要求4所述的流体供应装置，其特征在于，该导引单元还包括一固定于一承载件的导轨组件，该导轨组件连接该固定台，当该第一悬臂以该第一转轴为轴心而摆动时，该导轨组件相对于该第二驱动单元和该第一驱动单元静止不动，当该第一驱动单元上下移动该固定台时，该固定台沿着一纵向轨迹而相对于该承载件移动，并且保持该固定台与该导轨组件之间的连接。

6.如权利要求5所述的流体供应装置，其特征在于，该导引单元还包括一辅助升降件，该辅助升降件连接该导轨组件，用于上下移动该固定台。

7.如权利要求3所述的流体供应装置，其特征在于，该第一喷嘴具有一第一输出口，而该第二喷嘴具有一第二输出口，该第一输出口和该第二输出口相对于一水平面上具有一相同的高度。

8.如权利要求3所述的流体供应装置，其特征在于，该第二喷嘴位于该第一喷嘴的上方，且该第一喷嘴与该第二喷嘴彼此共轴重迭。

9.如权利要求2所述的流体供应装置，其特征在于，该第一悬臂包括一水平部与一转折部，该水平部连接于该转折部与该第一转轴之间，该转折部从该水平部向下倾斜延伸，并连接该第一喷嘴。

10.如权利要求2所述的流体供应装置，其特征在于，该导引单元包括一连接该第一转轴和该固定台的轴承。

11.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

一承载单元，包括一工作平台与一旋转轴，该工作平台连接该旋转轴，并以该旋转轴为轴心而旋转，该工作平台具有一供一基板放置的承载面；

一如权利要求1所述的流体供应装置，将一流体供应至该基板；以及

至少一液体收集单元，设置于该承载单元的一外侧，其中该液体收集单元用于接收从该基板流出的液体。

12.如权利要求11所述的基板处理设备，其特征在于，该第一摆臂喷洒组件包括一第一喷嘴，该第二摆臂喷洒组件包括一第二喷嘴，该第一喷嘴与该第二喷嘴皆沿着一弧形轨迹在该基板上移动。