[发明专利]有机发光显示设备的制造方法有效
| 申请号： | 201811067225.3 | 申请日： | 2018-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN109360906B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 杨阳;古春笑;刘成;崔永鑫 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/52;H01L21/84;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京曼威知识产权代理有限公司 11709 | 代理人： | 方志炜 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机 发光 显示 设备 制造 方法 | ||
1.一种有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述制造方法包括：
在承载基板(1)上形成含有光敏材料的柔性衬底(2)；
在柔性衬底(2)上形成薄膜晶体管(6)；
在薄膜晶体管(6)上形成功能膜层；
对柔性衬底(2)进行曝光，使光敏材料的分子链裂解。
2.如权利要求1所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：
在承载基板(1)上形成含有光敏材料的柔性衬底(2)，包括：
在聚合物溶液中加入光敏材料；
在承载基板(1)上涂布含有光敏材料的聚合物溶液；
对承载基板上的聚合物溶液进行固化，形成柔性衬底(2)。
3.如权利要求2所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述光敏材料包括光刻胶。
4.如权利要求2所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述光敏材料在柔性衬底中的质量占比为0.5％～3％。
5.如权利要求4所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述制造方法还包括：
在承载基板(1)上涂布聚合物溶液前，对聚合物溶液进行搅拌，使光敏材料均匀分布于聚合物溶液中。
6.如权利要求1所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：对柔性衬底(2)进行曝光，包括：
利用波长范围为365-410nm的光对柔性衬底(2)背对功能膜层的表面进行曝光。
7.如权利要求1所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：对柔性衬底(2)进行曝光，包括：
对柔性衬底(2)背对功能膜层的表面进行局部曝光。
8.如权利要求7所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述对柔性衬底(2)背对功能膜层的表面进行局部曝光，包括：
将光学掩模版(8)覆盖于柔性衬底(2)背对功能膜层的表面，采用波长范围为365-410nm的光穿过掩膜版的透光区(81)，对柔性衬底(2)背对功能膜层的表面进行局部曝光。
9.如权利要求1所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述制造方法包括：
在对柔性衬底(2)进行曝光前，剥离承载基板(1)与柔性衬底(2)。
10.如权利要求9所述的有机发光显示设备的制造方法，其特征在于：所述制造方法包括：
在剥离承载基板(1)后，对柔性衬底(2)、薄膜晶体管(6)和功能膜层所组成的结构进行模组组装，模组组装完成后对柔性衬底(2)进行曝光。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
